Participation Support for Students to Attend the 22nd American Conference on Crystal Growth and Epitaxy, Virtual, August 2-4, 2021

为学生参加第 22 届美国晶体生长和外延会议提供参与支持,虚拟会议,2021 年 8 月 2-4 日

基本信息

  • 批准号:
    2138270
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.7万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    2021
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    2021-08-15 至 2022-07-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This award provides participant support for attendees of the 22nd American Conference on Crystal Growth and Epitaxy to be held virtually from August 2-4, 2021. The symposium focuses on new research and development activities in bulk crystal and epitaxial thin film growth. The students and faculty present through oral and poster sessions their latest research results to the crystal growth and epitaxy, advanced manufacturing and broader engineering communities. Priority is given to student and young faculty participants who are women or who come from underrepresented minority groups. This approach promotes diverse participation at the conference, in the short term, and in STEM fields, in the long term. This award benefits the nation through the education of a skilled and diverse manufacturing workforce, which is better prepared to provide transformative solutions the challenges in their chosen fields. The conference plays an important role in supporting and sustaining the important field of crystal growth and epitaxy, which is an important component of semiconductor research. This conference is timely because of renewed interest in the revitalization of semiconductor manufacturing in the U.S.This participant support is expected to benefit the students' professional, scientific and technical development. Attendance at the conference gives the students and faculty a broader view of crystal growth and thin film epitaxy, its fundamentals, advanced manufacturing, advanced characterization, and applications. Symposium topics include fundamentals of materials synthesis, crystal structure analysis, deposition and crystal growth techniques and processes, high throughput manufacturing, process modeling, monitoring and control, and specialized topics, such as 2D nanomaterials. Attendees will learn about state-of-the-art research in their technical areas via access to several technical and professional development talks by leading domestic and international speakers. Students and young faculty enhance their communication skills through oral and poster presentations and in-depth discussions of their work with peers in their technical areas. This interactive experience significantly broadens student education, increases their enthusiasm for their research topic, acquaints them with expectations for scientific careers, and exposes them to new approaches for innovative research.This award reflects NSF's statutory mission and has been deemed worthy of support through evaluation using the Foundation's intellectual merit and broader impacts review criteria.
该奖项为参加第22届美国晶体增长和外在会议的与会者提供了参与者的支持,该会议将于2021年8月2日至4日举行。研讨会着重于散装水晶和外在薄膜增长的新研发活动。通过口头和海报会议出席的学生和教职员工,他们的最新研究结果是晶体增长和外观,先进的制造业和更广泛的工程社区。优先考虑妇女或来自代表性不足的少数群体的学生和年轻教师。从长远来看,这种方法可在短期内和STEM领域促进各种参与。通过教育熟练和多样化的制造业劳动力,该奖项使国家受益匪浅,该劳动力可以更好地为转型解决方案提供所选领域的挑战。该会议在支持和维持晶体生长和外观的重要领域中起着重要作用,这是半导体研究的重要组成部分。这次会议之所以及时,是因为对美国参与者支持的半导体制造业的振兴有望使学生的专业,科学和技术发展受益。参加会议的出席使学生和教职员工对水晶增长和薄膜外观,基本面,高级制造,高级特征和应用的更广泛视野。研讨会主题包括材料合成,晶体结构分析,沉积和晶体生长技术和过程的基础,高吞吐量制造,过程建模,监测和控制以及专业主题,例如2D纳米材料。 与会者将通过领先的国内外演讲者访问几次技术和专业发展谈判,了解其技术领域的最先进研究。学生和年轻的教师通过口头和海报演讲以及与技术领域的同龄人的工作进行了深入讨论来提高他们的沟通能力。这种互动经验极大地扩大了学生的教育,增加了他们对研究主题的热情,使他们对科学职业的期望相熟悉,并将他们暴露于新的创新研究方法中。该奖项反映了NSF的法定任务,并被认为是值得通过基金会的知识分子和更广泛影响的评估来通过评估来支持的,这是值得的。

项目成果

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专著数量(0)
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  • 影响因子:
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  • 作者:
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  • 通讯作者:
    Yoshitaka Okada

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    2333144
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 0.7万
  • 项目类别:
    Standard Grant
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  • 批准号:
    2039351
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    2020
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  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 0.7万
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  • 批准号:
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    1748382
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 0.7万
  • 项目类别:
    Standard Grant
MIP: 2D Crystal Consortium (MIP-2DCC)
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  • 批准号:
    1539916
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  • 资助金额:
    $ 0.7万
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