Conference: Support of the 35th International Symposium on Electron, Ion and Photon Beams, Seattle, Washington, May 28-31, 1991
会议:支持第 35 届电子、离子和光子束国际研讨会,华盛顿州西雅图,1991 年 5 月 28-31 日
基本信息
- 批准号:9121184
- 负责人:
- 金额:$ 1万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Standard Grant
- 财政年份:1991
- 资助国家:美国
- 起止时间:1991-09-15 至 1991-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
This proposal is for support of student travel to the 35th International Symposium on Electron, Ion and Photon Beams, in Seattle, Washington, May 28-31, 1991. The symposium will cover the latest research results in the fields of nanofabrication, microfabrication, electron and ion lithographies, x- ray lithography, particle beam optics, and forefront applications of nanofabrication. At this conference the latest research from groups around the world are usually reported first. The proceedings of the conference will be published in the Journal of Vacuum Science and Technology.
本提案旨在支持学生前往参加 1991 年 5 月 28 日至 31 日在华盛顿州西雅图举行的第 35 届电子、离子和光子束国际研讨会。该研讨会将涵盖纳米加工、微加工、电子领域的最新研究成果。和离子光刻、X 射线光刻、粒子束光学以及纳米加工的前沿应用。 在这次会议上,通常首先报告来自世界各地的团体的最新研究。 会议论文集将发表在《真空科学与技术杂志》上。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
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