防护性硅烷膜的电沉积制备
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50871101
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:31.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0103.金属材料使役行为与表面工程
- 结题年份:2011
- 批准年份:2008
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2009-01-01 至2011-12-31
- 项目参与者:张金涛; 邹建凯; 刘倞; 毛建拥; 丁尚志; 孙晓静;
- 关键词:
项目摘要
环保型硅烷膜是当今金属防护预处理领域的研究热点,意在取代传统的磷化与铬酸盐转化处理工艺。根据"碱催化"促进硅烷膜形成的原理,采用阴极电沉积技术制备硅烷膜已倍受关注。但是,简单的电沉积工艺却很难制备得到防护性能优异的硅烷膜。在系统分析存在的问题及参考项目组前期工作的基础上,本项目提出建立适合防护性硅烷膜电沉积的全新制备体系:针对沉积液中溶解氧还原生成OH-离子能力有限的缺点,提出加入其它"碱化"能力更强的物种;为避免阴极沉积时H2O发生分解生成有害H2气泡,提出加入合适的析氢抑制剂。通过对两类物种的筛选与沉积条件的优化,电沉积制备得到耐蚀性能优异的防护性硅烷膜;通过考察硅烷膜生长动力学、膜结构、金属/硅烷膜界面性质,及膜显微力学性能等,进一步明晰电沉积硅烷膜相对于传统浸涂工艺具有更优异性能的内在机制。力争通过上述问题的研究,为电沉积制备防护性硅烷膜这一全新领域的研究与开发提供可借鉴的思路。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
IrO2-SiO2 binary oxide films: Geometric or kinetic interpretation of the improved electrocatalytic activity for the oxygen evolution reaction
IrO2-SiO2 二元氧化物薄膜:析氧反应电催化活性改进的几何或动力学解释
- DOI:10.1016/j.ijhydene.2011.01.131
- 发表时间:2011-05-01
- 期刊:INTERNATIONAL JOURNAL OF HYDROGEN ENERGY
- 影响因子:7.2
- 作者:Zhang, Jia-Jia;Hu, Ji-Ming;Cao, Chu-Nan
- 通讯作者:Cao, Chu-Nan
自组装膜技术及其在电化学分析中的应用
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:表面技术
- 影响因子:--
- 作者:洪誉鹏;刘倞;胡吉明;唐科忠
- 通讯作者:唐科忠
Electrodeposition of cerium (III)-modified bis-[triethoxysilypropyl]tetra-sulphide films on AA2024-T3 (aluminum alloy) for corrosion protection
在 AA2024-T3(铝合金)上电沉积铈 (III) 改性双[三乙氧基甲硅烷基丙基]四硫化物薄膜以实现腐蚀防护
- DOI:10.1016/j.surfcoat.2010.05.027
- 发表时间:2010-08
- 期刊:Surface & Coatings Technology
- 影响因子:5.4
- 作者:Liu, L;Zhang, JQ;Wu, LK;Cao, CN;Hu,JM;Li, J
- 通讯作者:Li, J
基于高频电化学阻抗谱测试的涂层防护性能评价方法
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:腐蚀科学与防护技术
- 影响因子:--
- 作者:张鉴清;刘倞;曹楚南;胡吉明
- 通讯作者:胡吉明
硅烷化学改性环氧涂层的耐蚀性能
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:电化学
- 影响因子:--
- 作者:刘倞;曹楚南;胡吉明;季卫刚;张鉴清
- 通讯作者:张鉴清
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