基于工具磨损机理及其影响规律探索的气囊抛光工具时变去除特性抑制方法研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:51705011
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:26.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0509.加工制造
- 结题年份:2020
- 批准年份:2017
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2018-01-01 至2020-12-31
- 项目参与者:钟波; 纪姝婷; 苗伟; 唐宇航; 王鸿亮; 袁帅; 刘凯凯;
- 关键词:
项目摘要
Aiming at solving the commonly recognized challenge in the polishing process that, the poor machining efficiency resulted by the instability of the determination of workpiece material removal, an investigation whose research object is the bonnet polishing process of fused silica optical element is proposed in this application, with the idea that suppressing the time-variant removal characteristic of the bonnet tool to keep it stable in the polishing process, and therefore enhance the determination of workpiece material removal. Firstly, the exploration of the tool wear mechanism is carried out. Subsequently, a simulation study is conducted to establish the mapping relations between the tool wear characteristic and the interface parameters of the contacting zone between tool and workpiece, and also the influence on the tool material removal characteristic brought by its wear characteristic is revealed. Then, the prediction model for the critical wear state of the polishing tool is proposed. Finally, according to the theoretical studies above, the enhancement method for the determination of workpiece material removal by suppressing the time-variant removal characteristic is present, on the basis of the strategy that decelerates or compensates the tool wear by controlling of the manufacturing parameters, and the validated experiments are carried out to verify the above research contents. The research findings of this application would provide theoretical and technical support for improving the polishing efficiency of high precision optics, and finally achieve the purpose of promoting the machining level of high precision optical components.
为解决抛光过程中因工件的材料去除确定性不足,造成抛光效率低这一高精度光学元件抛光领域的共性问题,本项目拟以熔石英光学元件的气囊抛光过程为研究对象,以抑制因工具磨损产生的抛光工具去除特性的时变特征,使其在加工过程保持稳定,从而提高工件的材料去除确定性为思路,开展系统研究。项目将依次探索高精度光学元件气囊抛光过程中工具磨损的机理;构建抛光工具磨损与抛光工具去除特性的映射,揭示工具磨损对工具去除特性的影响规律,建立抛光工具的时变去除特性计算模型;研究抛光工具磨损失效的截止去除特性标定及抛光工具临界磨损失效状态预测。最后综合上述研究,提出基于加工参数控制的工具磨损延缓/补偿方法,来抑制抛光工具去除特性的时变性,使其在抛光过程保持稳定从而提高工件的材料去除确定性,并进行实验验证。项目的研究成果为从本质上提高高精度光学元件的抛光效率提供理论支撑,最终达到推动我国高精度光学元件批量化制造水平发展的目的。
结项摘要
为解决抛光过程中因工件的材料去除确定性不足,造成抛光效率低这一高精度光学元件抛光领域的共性问题,本项目以熔石英光学元件的气囊抛光过程为研究对象,以抑制因工具磨损产生的抛光工具去除特性的时变特征,使其在加工过程保持稳定,从而提高工件的材料去除确定性为思路,开展系统研究。项目依次开展了高精度光学元件气囊抛光过程工件材料去除机理优化、气囊抛光过程中工具磨损的机理、构建气囊抛光工具的时变去除特性计算模型、提出基于加工参数控制的工具磨损修整补偿方法,来抑制抛光工具去除特性的时变性,使其在抛光过程保持稳定从而提高工件的材料去除确定性,并进行实验验证。项目的研究成果为从本质上提高高精度光学元件的抛光效率提供一定的理论支撑,有助于推动我国高精度光学元件批量化制造水平发展的目的。
项目成果
期刊论文数量(7)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(2)
Impact of pad conditioning on the bonnet polishing process
垫调节对阀盖抛光过程的影响
- DOI:10.1007/s00170-018-2250-0
- 发表时间:2018-06
- 期刊:International Journal of Advanced Manufacturing Technology
- 影响因子:3.4
- 作者:Zhong Bo;Huang Hongzhong;Chen Xianhua;Wang Jian;Pan Ri;Wen Zhongjiang
- 通讯作者:Wen Zhongjiang
Kinematic errors prediction for multi-axis machine tools' guideways based on tolerance
基于公差的多轴机床导轨运动误差预测
- DOI:10.1007/s00170-018-2335-9
- 发表时间:2018
- 期刊:International Journal of Advanced Manufacturing Technology
- 影响因子:3.4
- 作者:Fan Jinwei;Tao Haohao;Wu Changjun;Pan Ri;Tang Yuhang;Li Zhongsheng
- 通讯作者:Li Zhongsheng
Modification of tool influence function of bonnet polishing based on interfacial friction coefficient
基于界面摩擦系数的阀盖抛光工具影响函数修正
- DOI:10.1016/j.ijmachtools.2017.09.003
- 发表时间:2018
- 期刊:International Journal of Machine Tools and Manufacture
- 影响因子:14
- 作者:Pan Ri;Chen Dongju;Fan Jinwei;Zhang Chunyan;Wei Sinan;Zhong Bo;Zhong Bo;Wang Zhenzhong;Pan R
- 通讯作者:Pan R
Optimal tolerance allocation for five-axis machine tools in consideration of deformation caused by gravity
考虑重力变形的五轴机床公差优化分配
- DOI:10.1007/s00170-020-06096-x
- 发表时间:2020-09
- 期刊:International Journal of Advanced Manufacturing Technology
- 影响因子:3.4
- 作者:范晋伟;陶浩浩
- 通讯作者:陶浩浩
Qualitative Motion Control Optimization of the Pad Dressing Process for Bonnet Tool
阀盖工具垫修整过程的定性运动控制优化
- DOI:10.1109/tmech.2019.2906502
- 发表时间:2019-06
- 期刊:IEEE/ASME Transactions on Mechatronics
- 影响因子:--
- 作者:Pan Ri;Tang Yuhang;Zhong Bo;Chen Dongju;Wang Zhenzhong;Fan Jinwei;Zhang Chunyan
- 通讯作者:Zhang Chunyan
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其他文献
微流控芯片磁性抛光工艺参数优化
- DOI:--
- 发表时间:2021
- 期刊:北京工业大学学报
- 影响因子:--
- 作者:范晋伟;印健;潘日
- 通讯作者:潘日
平行磨削非轴对称非球面光学元件表面形貌
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:强激光与粒子束
- 影响因子:--
- 作者:张宁宁;王振忠;潘日;王春锦;郭隐彪
- 通讯作者:郭隐彪
高热流密度电子元件中热管散热技术的进展
- DOI:--
- 发表时间:2015
- 期刊:化工进展
- 影响因子:--
- 作者:潘日;周刚;张亚军;庄俭
- 通讯作者:庄俭
动态参数影响下液体静压主轴运动精度分析及优化
- DOI:--
- 发表时间:2020
- 期刊:西安交通大学学报
- 影响因子:--
- 作者:陈东菊;李源;查春青;潘日;范晋伟
- 通讯作者:范晋伟
精密检测平台定位误差自适应补偿技术
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:强激光与粒子束
- 影响因子:--
- 作者:张东旭;毕果;郭隐彪;王健;王詹帅;潘日
- 通讯作者:潘日
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