玻璃基板上大面积硅薄膜的制备技术及其机理研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:69676006
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:25.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0401.半导体材料
- 结题年份:1998
- 批准年份:1996
- 项目状态:已结题
- 起止时间:1997-01-01 至1998-12-31
- 项目参与者:汪建勋; 杜丕一; 刘俊波; 余京松; 寿瑾珲; 赵高凌; 朱涛; 孙玉琴;
- 关键词:
项目摘要
系统研究了化学气相沉积硅薄膜的制备工艺参数、硅薄膜的结构、组成和性能之间的关系,基本搞 清了硅薄膜的低温沉积机理。高分辩电镜测试结果表明硅薄膜的微结构与沉积温度和掺杂气体密切相关,随温度的升高薄膜由非晶逐渐向微晶转变,在660℃得到由数纳米的硅和碳化硅晶粒组成的复合薄膜。成功开发了浅金、金黄和绿色三种新型阳光控制镀膜玻璃,并在浮法玻璃生产线上进行了中试,掌握了在浮法玻璃基板上生长连续均匀大面积硅薄膜的制备技术,产品性能达到国家标准,取得显著经济效益,圆满完成计划任务,达到预定目标。研究成果正在申请专利,具有广泛的应用前景和重要推广价值,将推动我国玻璃行业的技术进步。
结项摘要
项目成果
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