双结非晶/微晶硅叠层太阳电池结构性缺陷问题的基础研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61066003
- 项目类别:地区科学基金项目
- 资助金额:25.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0403.半导体光电子器件与集成
- 结题年份:2013
- 批准年份:2010
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2011-01-01 至2013-12-31
- 项目参与者:胡飞; 范跃农; 詹棠森; 王英连; 高皓; 徐海军;
- 关键词:
项目摘要
采用双结micromorph叠层电池结构,能较好地解决非晶硅太阳电池光衰退问题和提高其效率。但这种电池存在如下结构性缺陷:(1)顶、底电池的np连接缺陷,pn结反偏影响光生载流子收集效率;(2)顶电池本征层减薄,影响电池对入射光的吸收效率;(3)顶、底电池电流不匹配,影响电池性能。提出用n+_ZnO:Al/p+_μc-Si:H薄膜结构的重掺杂n+p+隧道结串接叠层电池顶、底电池方案,及采用偏光源方法实现顶、底电池电流匹配的研究内容。用隧道结隧穿特性和其自身的陷光性能,综合地解决双结micromorph的np连接缺陷和内部陷光问题,是本项目研究的创新点。研究中,n+p+隧道结高透光性、高电导特性、良好隧穿性能和陷光特性工艺的解决,是研究拟解决的关键问题。研究预期成果揭示双结micromorph叠层电池结构性缺陷影响电池性能的机理,及电池效率大于13%目标的实现,具有重要的理论意义和实用价值。
结项摘要
本项目主要研究了一种具有良好隧穿性能和陷光性能的ZnO:Al/p+-μc-Si:H遂道结薄膜材料,同时研究用这种遂道结薄膜材料来连接双结非晶硅/微晶硅叠层电池的顶电池与底电池的连接缺陷问题,达到了计划合同书要求。项目完成过程中:(1)首先,研究了导电性能、透光性能和陷光性能优异的ZnO:Al薄膜制备工艺及在太阳电池前电极上应用,具体开展的研究内容为:①通过二步法直接制备出具有金字塔结构的绒面ZnO:Al薄膜。ZnO:Al薄膜透过率达到了85%以上,最低的电阻率也达到了7.8×10-4Ω•cm。将这种薄膜应用到非晶硅太阳能电池前电极上时,发现前电极与电池窗口层之间接触势垒高,影响电池性能,插入一层微晶硅层后,电池填充因子达到70.5%,转换率也达到了7.9%。②研究了ZnO透明导电薄膜带隙宽度和电阻的调控规律。采用溶胶-凝胶制备Mg-Sn共掺杂ZnO薄膜,发现Mg、Sn掺杂量的变化,可以达到调控ZnO薄膜带隙宽度和电阻的目的,当Mg:Sn掺杂比例为2at%:0.5at%时,ZnO薄膜带隙宽度为3.27eV、电阻率为3.1×10-2Ω•cm的最佳值。③进行了对ZnO薄膜的氢化处理以减小ZnO层与a-Si:H的接触势垒的研究,研究结果发现:对ZnO薄膜的氢化处理可以改善ZnO:Al-H薄膜的电学性能,起到降低ZnO层与a-Si:H的接触势垒高度的目的,电阻率最低达到7.58×10-4 Ω•cm、透过率保持在80%左右;同时,发明了一种对SEM图像进行二维傅立叶变换分析的方法,定量地分析薄膜表面形貌;(2)第二,利用优化工艺制备的ZnO:Al薄膜基础上,研究了ZnO:Al/p+_μc-Si:H隧道结制备及性能,获得了具有优异电学性能和光学性能的ZnO:Al/p+_μc-Si:H隧道结:光透过率大于80%,电阻率为8.89×10-4Ω.cm,当测试电压为0.08V时,其隧穿电流为24.5mA/cm2。(3)最后,研究了用ZnO:Al/ p+_μc-Si:H隧道结,来连接双结非晶硅/微晶硅叠层电池的顶电池与底电池,发现当隧道结厚度为51nm时,非晶硅/微晶硅叠层电池的顶/底电池电流匹配最好,电池的性能参数为:短路电流为Jsc =15.69 mA/cm2, 开路电压Voc=1.44 V, 填充因子FF=64.49%, 转换效率Eff=14.67 %。
项目成果
期刊论文数量(17)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(2)
专利数量(0)
溶胶-凝胶法制备Li掺杂ZnO纳米薄膜及其表征
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:真空科学与技术学报
- 影响因子:--
- 作者:陈新华;胡跃辉;张效华;杨丰;陈义川;陈俊;马德福
- 通讯作者:马德福
溶胶-凝胶法制备ZnO:Sn薄膜的微观结构及光电特性
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:中国陶瓷
- 影响因子:--
- 作者:马德福;胡跃辉;胡鸿豪;张效华;陈义川;陈新华
- 通讯作者:陈新华
Effects of cobalt doping concentration on properties of zinc oxide films prepared by sol-gel
钴掺杂浓度对溶胶-凝胶法制备氧化锌薄膜性能的影响
- DOI:10.1504/ijsurfse.2014.059306
- 发表时间:2014-02
- 期刊:International Journal of Surface Science and Engineering
- 影响因子:0.8
- 作者:胡跃辉
- 通讯作者:胡跃辉
Bi_(1.65)Zn_(1.0)Nb_(1.5)O_(7.225)陶瓷和薄膜的结构和介电性能对比
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:人工晶体学报
- 影响因子:--
- 作者:张效华;辛凤;胡跃辉;杨丰;陈义川
- 通讯作者:陈义川
氢化处理对Li-W共掺杂ZnO薄膜性能的影响
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:真空科学与技术学报
- 影响因子:--
- 作者:陈义川;胡跃辉;张效华
- 通讯作者:张效华
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其他文献
调制溅射气压对ZnO ∶ Ga 薄膜结构与光电性能的影响
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:中国陶瓷
- 影响因子:--
- 作者:帅伟强;胡跃辉;张效华;胡克艳;陈义川
- 通讯作者:陈义川
共掺浓度对Na-Al共掺杂ZnO薄膜 微观结构和光电性能的影响
- DOI:--
- 发表时间:2018
- 期刊:材料工程
- 影响因子:--
- 作者:陈义川;胡跃辉;胡克艳;张效华;童帆;帅伟强;劳子轩
- 通讯作者:劳子轩
缓冲层对溶胶凝胶制备ZnO∶Sn薄膜性能的影响
- DOI:10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2016.02.060
- 发表时间:2016
- 期刊:人工晶体学报
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- 作者:范建彬;胡跃辉;陈义川;胡克艳
- 通讯作者:胡克艳
功能薄膜材料的制备方法对比与应用前景
- DOI:10.13957/j.cnki.tcxb.2015.03.005
- 发表时间:2015
- 期刊:陶瓷学报
- 影响因子:--
- 作者:辛凤;张效华;胡跃辉;陈义川
- 通讯作者:陈义川
Al-Sn共掺杂浓度对ZnO薄膜的结构和光电性能的影响
- DOI:10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2018.07.001
- 发表时间:2018
- 期刊:中国陶瓷
- 影响因子:--
- 作者:陈义川;胡克艳;张效华;朱文均;帅伟强;劳子轩;胡跃辉
- 通讯作者:胡跃辉
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