离子束外延法生长半导体性β-FeSi2薄膜的研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:69276003
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:5.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0401.半导体材料
- 结题年份:1995
- 批准年份:1992
- 项目状态:已结题
- 起止时间:1993-01-01 至1995-12-31
- 项目参与者:姚振钰; 王向明; 任治璋; 刘志剀;
- 关键词:
项目摘要
用带有质量分离的低能离子束外延技术在超高真空环境中在Si(111)衬底上生长了β—FeSi2外延薄膜。研究了衬底的预处理,Fe(+)离子能量,衬底温度,薄膜热处理及膜厚等因素对薄膜晶体结构的影响。RHEED,X光衍射,AES及XPS结果表明,在最佳工艺条件下可得到膜厚达1000A(。),有较好晶全质量和正化学比的β—FeSi2外延薄膜。光学测量表明薄膜为Eg≈0.84eV的直接带半导体,电学测量表明薄膜为P型,室温电阻率约6×10(-2)Ωcm,空穴浓度约3×10(18)cm(-3),空穴迁移率约40cm(-2)V(-1)S(-1)。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi || "--"}}
- 发表时间:{{ item.publish_year || "--" }}
- 期刊:{{ item.journal_name }}
- 影响因子:{{ item.factor || "--"}}
- 作者:{{ item.authors }}
- 通讯作者:{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:{{ item.authors }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
其他文献
其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:{{ item.doi || "--" }}
- 发表时间:{{ item.publish_year || "--"}}
- 期刊:{{ item.journal_name }}
- 影响因子:{{ item.factor || "--" }}
- 作者:{{ item.authors }}
- 通讯作者:{{ item.author }}
内容获取失败,请点击重试
查看分析示例
此项目为已结题,我已根据课题信息分析并撰写以下内容,帮您拓宽课题思路:
AI项目摘要
AI项目思路
AI技术路线图
请为本次AI项目解读的内容对您的实用性打分
非常不实用
非常实用
1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
您认为此功能如何分析更能满足您的需求,请填写您的反馈:
秦复光的其他基金
离子束外延生长超薄层及多层结构材料的研究
- 批准号:68786009
- 批准年份:1987
- 资助金额:8.0 万元
- 项目类别:专项基金项目
相似国自然基金
{{ item.name }}
- 批准号:{{ item.ratify_no }}
- 批准年份:{{ item.approval_year }}
- 资助金额:{{ item.support_num }}
- 项目类别:{{ item.project_type }}
相似海外基金
{{
item.name }}
{{ item.translate_name }}
- 批准号:{{ item.ratify_no }}
- 财政年份:{{ item.approval_year }}
- 资助金额:{{ item.support_num }}
- 项目类别:{{ item.project_type }}