大幅度提高铁电场效应管(FeFET)中存储电荷保持时间
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60776054
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:31.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0405.半导体器件物理
- 结题年份:2010
- 批准年份:2007
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2008-01-01 至2010-12-31
- 项目参与者:汤庭鳌; 虞惠华; 张燕均; 费瑾文; 张云娴; 张鑫; 王明;
- 关键词:
项目摘要
非挥发铁电薄膜存储器件具有读写操作速度快和电压低等优点得到了广泛的关注。常用电荷积分的识别方法会随着器件存储密度的提高而引起信号识别困难。采用铁电场效应管(FeFET)的读写方式不仅可以克服该缺点,且信号的读取是非破坏性的,提高了器件的使用寿命。但是这种器件的缺点是信息保持时间短,成为技术发展上的一个颈瓶。究其机理是由于在硅衬底和铁电薄模之间生长的绝缘层太薄(~几个纳米),导致了存储电荷发生泄漏现象。如果该层太厚,又会导致在正常写电压下电畴翻转的困难。针对这对矛盾,我们提出用反铁电材料部分或完全替代该绝缘层,通过铁电和反铁电二者膜厚比的调节,保证在外加写电压之后反铁电体仍维持在铁电态,从而产生一个可以调节半导体内沟道电流的电势。由于反铁电体和铁电体的饱和极化强度基本相当,反铁电层膜厚可以增大,减小了漏电流,信息保持时间得以延长,同时又可以保证在正常的写电压下电畴的完全翻转。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(1)
专利数量(9)
The Inlaid Al2O3 Tunnel Switch for Ultrathin Ferroelectric Films
超薄铁电薄膜镶嵌Al2O3隧道开关
- DOI:10.1002/adma.200802924
- 发表时间:2009-07-07
- 期刊:ADVANCED MATERIALS
- 影响因子:29.4
- 作者:Jiang, An Quan;Lee, Hyun Ju;Hwang, Cheol Seong
- 通讯作者:Hwang, Cheol Seong
Reversible charge injection in antiferroelectric thin films
反铁电薄膜中的可逆电荷注入
- DOI:10.1063/1.3039073
- 发表时间:2008-11
- 期刊:Applied Physics Letters
- 影响因子:4
- 作者:Zhang, Q.;Tang, T. A.;Jiang, A. Q.;Corkovic, S.
- 通讯作者:Corkovic, S.
Resolving the Landauer paradox in ferroelectric switching by high-field charge injection
通过高场电荷注入解决铁电开关中的兰道尔悖论
- DOI:10.1103/physrevb.80.024119
- 发表时间:2009-07-01
- 期刊:PHYSICAL REVIEW B
- 影响因子:3.7
- 作者:Jiang, An-Quan;Lee, Hyun Ju;Tang, Ting-Ao
- 通讯作者:Tang, Ting-Ao
Estimation of nonlinear interfacial capacitance from domain switching current of ferroelectric thin films
从铁电薄膜的畴切换电流估计非线性界面电容
- DOI:10.1016/j.tsf.2008.10.056
- 发表时间:2009-02
- 期刊:Thin Solid Films
- 影响因子:2.1
- 作者:Jiang, A. Q.;Fei, J. W.;Tang, T. A.
- 通讯作者:Tang, T. A.
Formulization of long-time domain switching around the coercive field from imprint measurements on ferroelectric thin films
通过铁电薄膜上的压印测量来公式化围绕矫顽场的长时域切换
- DOI:10.1063/1.2948931
- 发表时间:2008-06
- 期刊:Journal of Applied Physics
- 影响因子:3.2
- 作者:Jiang, A. Q.;Lin, Y. Y.;Tang, T. A.;Fei, J. W.
- 通讯作者:Fei, J. W.
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其他文献
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