基于机器学习方法的新型半导体器件紧凑模型技术研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61874134
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:64.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0408.新型信息器件
- 结题年份:2022
- 批准年份:2018
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2019-01-01 至2022-12-31
- 项目参与者:王嘉玮; 杨冠华; 史学文; 赵莹; 苏悦; 宫玉昕;
- 关键词:
项目摘要
Compact model of semiconductor device is used for circuit design and play an important role between fabrication and circuit performance. A universal compact model technique is of fundamental importance for the development of microelectronics community. This project will adopt machine learning method to develop compact model and will carry out systematic study on charge transport physics for different device structure, material and fabrication processes, the analytical solution of surface potential using machine learning method, and compact model development based on surface potential. It will have great innovation on the aspects of investigation on the dependence of charge transport in Nano-scale, solving Schotinger equation, Boltzmann equation and continuity equation by machine leaning, and universal compact model applicable for new material and new device structure.
紧凑模型技术是连接工艺制作和电路设计之间的桥梁。针对新工艺新结构和新材料的普适的紧凑模型技术是微电子技术进一步发展的重要基础。本项目拟采用机器学习方法构建器件表面势紧凑模型。重点对材料特性,器件结构对表面势影响,机器学习方法构建表面势解析解以及紧凑模型建立等方面开展系统研究。本项目将开发纳米尺度载流子输运的物理模型,用机器学习方法求解薛定谔方程以及玻尔兹曼方程和连续性方程组,获得普适的解析表面势;建立基于表面势的新工艺/新材料新结构器件紧凑模型的研究。这些成果对于发展新型半导体器件及电咱具有重要的创新意义,预计会取得一些具有自主知识产权的原创性研究成果。
结项摘要
紧凑模型技术是连接工艺制作和电路设计之间的桥梁。针对新工艺新结构和新材料的普适的紧凑模型技术是微电子技术进一步发展的重要基础。本项目通过采用机器学习的方法,开发了普适的解析表面势,并在此基础上建立了以高度自动化的方式、可推广的MOSFET器件的紧凑模型;通过使用统一的漂移和扩散方程,基于在氧化物界面层的离子动态传输理论,开发了可用于28纳米RRAM器件的紧凑模型;开发了厚度小于6纳米的全栅工艺器件紧凑模型,解决了量子限制效应难以引入传统模型的问题;开发了统一的物理和统计紧凑模型,可以预测BTI对不同工艺节点的器件及电路(低至14nm)的影响;针对小尺寸非晶IGZO薄膜晶体管建立了一个基于表面势的紧凑模型,对纳米量级的无序传输进行了有限尺寸的修正,该模型适用于500 nm~12 nm的器件。
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(1)
会议论文数量(1)
专利数量(8)
Investigation of Hump Behavior of Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin-Film Transistor Under Positive Bias Stress
非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管在正偏压下驼峰行为的研究
- DOI:10.1109/ted.2021.3135249
- 发表时间:2022-01-12
- 期刊:IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
- 影响因子:3.1
- 作者:Ul Huzaibi, Hassan;Lu, Nianduan;Li, Ling
- 通讯作者:Li, Ling
A Novel Dynamic Time Method for Organic Light-Emitting Diode Degradation Estimation in Display Application
显示应用中有机发光二极管退化估计的新型动态时间方法
- DOI:10.1109/led.2021.3073146
- 发表时间:2021-06
- 期刊:IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
- 影响因子:4.9
- 作者:Qian Chen;Di Geng;Yue Su;Xinlv Duan;Hansai Ji;Ling Li
- 通讯作者:Ling Li
A novel extraction method of device parameters for thin-film transistors (TFTs)
一种新颖的薄膜晶体管(TFT)器件参数提取方法
- DOI:10.1016/j.physleta.2021.127386
- 发表时间:2021-04
- 期刊:PhysicsLettersA
- 影响因子:--
- 作者:ZihengBai;Ni;uanLu;JiaweiWang;DingGeng;DongyangLiu;KuiXiao;LingLi
- 通讯作者:LingLi
Room Temperature-Processed a-IGZO Schottky Diode for Rectifying Circuit and Bipolar 1D1R Crossbar Applications
用于整流电路和双极 1D1R 交叉开关应用的室温处理 a-IGZO 肖特基二极管
- DOI:10.1109/ted.2019.2928792
- 发表时间:2019-09
- 期刊:IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
- 影响因子:3.1
- 作者:Quantan Wu;Guanhua Yang;Congyan Lu;Guangwei Xu;Jiawei Wang;Bingjie Dang;Yuxin Gong;Xuewen Shi;Xichen Chuai;Ni;uan Lu;Di Geng;Hong Wang;Ling Li;Ming Liu
- 通讯作者:Ming Liu
Anomalous Positive Bias Stress Instability in MoS2 Transistors With High-Hydrogen-Concentration SiO2 Gate Dielectrics
具有高氢浓度 SiO2 栅极电介质的 MoS2 晶体管中的反常正偏压应力不稳定性
- DOI:10.1109/led.2018.2886423
- 发表时间:2019-02
- 期刊:IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
- 影响因子:4.9
- 作者:Guanhua Yang;Xichen Chuai;Jiebin Niu;Jiawei Wang;Xuewen Shi;Quantan Wu;Yue Su;Ying Zhao;Dongyang Liu;Guangwei Xu;Congyan Lu;Di Geng;Ni;uan Lu;Ling Li;Ming Liu
- 通讯作者:Ming Liu
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其他文献
Contact-Length-Dependent Contact Resistance of Top-Gate Staggered Organic Thin-Film Transistors
顶栅交错有机薄膜晶体管的接触长度相关接触电阻
- DOI:10.1109/led.2012.2224631
- 发表时间:2013
- 期刊:IEEE Electron Device Letters
- 影响因子:4.9
- 作者:王宏;李泠;姬濯宇;陆丛研;郭经纬;王龙;刘明
- 通讯作者:刘明
Response to ldquo;comment on real-time observation on dynamic growth/dissolution of conductive filaments in oxide-electrolyte-based ReRAM
响应
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Advanced Materials
- 影响因子:29.4
- 作者:孙俊;吕杭炳;龙世兵;李泠;尹奎波;万能;李颖涛;孙立涛;刘明
- 通讯作者:刘明
其他文献
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