掺氮的重掺砷直拉单晶硅中的氧沉淀和空洞型缺陷的研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50672085
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:29.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0207.无机非金属半导体与信息功能材料
- 结题年份:2009
- 批准年份:2006
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2007-01-01 至2009-12-31
- 项目参与者:张辉; 田达晰; 符黎明; 李明; 李金刚; 夏庆锋; 陈加和;
- 关键词:
项目摘要
本项目是在有明确的应用背景下而提出的,旨在提高N/N+外延片的内吸杂功能,从而有利于提高集成电路的成品率。项目将生长掺氮的重掺砷直拉硅单晶;研究氮对重掺砷单晶硅原生氧沉淀形成的影响,揭示氮对原生氧沉淀形成有强烈影响的温度范围;研究在不同热处理条件(单步、多步退火)下,特别是在模拟CMOS器件工艺的热循环条件下,掺氮的重掺砷单晶硅的氧沉淀行为及规律;研究氮对重掺砷单晶硅中原生空洞型缺陷(COP)形成的影响,通过与普通的重掺砷单晶硅的比较,揭示氮对重掺砷硅单晶中COP的密度和尺寸分布的影响,并提出其影响机制;研究掺氮的重掺砷单晶硅片的COP在氢气或惰性气氛下高温热处理的消除行为,开发出消除掺氮的重掺砷单晶硅片COP的技术;对利用掺氮的重掺砷硅片作为衬底生长的N/N+外延片的内吸杂能力作出评价。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Kinetics of nitrogen indiffusion in czochralski silicon annealed in nitrogen ambient
氮气气氛退火直拉硅中氮内扩散动力学
- DOI:--
- 发表时间:2008
- 期刊:Chinese Physics Letters
- 影响因子:3.5
- 作者:Ma Xiang-Yang;Li Ming;Yang De-Ren
- 通讯作者:Yang De-Ren
低温退火对重掺砷直拉硅片的氧沉淀形核的作用
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理学报
- 影响因子:--
- 作者:宫龙飞;奚光平;曾俞衡;田达晰;杨德仁;马向阳
- 通讯作者:马向阳
Oxygen precipitation heterogeneously nucleating on silicon phosphide precipitates in heavily phosphorus-doped Czochralski silicon
重磷掺杂直拉硅中磷化硅沉淀物上的氧沉淀异相成核
- DOI:10.1063/1.3120943
- 发表时间:2009-05
- 期刊:Journal of Applied Physics
- 影响因子:3.2
- 作者:Yuheng Zeng;Xiangyang Ma;Daxi Tian;Weiyang Wang;Longfei Gong;Deren Yang;Duanlin Que
- 通讯作者:Duanlin Que
Oxygen precipitation in conventional and nitrogen co-doped heavily arsenic-doped Czochralski silicon crystals: Oswald ripening
常规和氮共掺杂重砷直拉硅晶体中的氧沉淀:奥斯瓦尔德熟化
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Solid State Phenomena
- 影响因子:--
- 作者:Xiangyang Ma, Yan Feng, Yuheng Zeng, Deren Yang
- 通讯作者:Xiangyang Ma, Yan Feng, Yuheng Zeng, Deren Yang
A chromium-free etchant for delineation of defects in heavily doped n-gype silicon wafers
一种无铬蚀刻剂,用于描绘重掺杂 n-gype 硅片中的缺陷
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Materials Science in Semiconductor Processing
- 影响因子:4.1
- 作者:Yuheng Zeng, Deren Yang, Xiangyang Ma, Zhidan zeng
- 通讯作者:Yuheng Zeng, Deren Yang, Xiangyang Ma, Zhidan zeng
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- 通讯作者:杨德仁
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