Cu2ZnSnS4薄膜太阳电池的制备与光伏性能关系的研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:51072043
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:37.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0207.无机非金属半导体与信息功能材料
- 结题年份:2013
- 批准年份:2010
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2011-01-01 至2013-12-31
- 项目参与者:梁齐; 鲁道荣; 汪华; 蒋英; 刘清安; 桃李; 史高杨; 陈柱;
- 关键词:
项目摘要
针对Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜的制备还未直接以廉价的CZTS材料为源,普遍通过相应金属或其硫化物的多层薄膜在含硫的气氛中高温退火来形成,且只能依照玻璃/Mo/CZTS/CdS/透明导电薄膜/金属栅电极的结构次序来构建太阳电池,制备过程繁琐、成本高的研究现状,本项目将以新生成的CuS、ZnS、SnS为原料,按化学计量比先进行球磨混合再经高压水热处理来制备CZTS粉体,采用真空热蒸发和磁控溅射法沉积CZTS薄膜,避免使用含硫气氛中的高温退火操作;利用化学浴法在F:SnO2导电玻璃(FTO)上沉积CdS薄膜;研究CZTS和CdS薄膜的制备与后处理对其组成、微结构和物理性质的影响,揭示这二者与太阳电池光伏性能之间的关系,获得简单新颖结构FTO/CdS/CZTS/金属背电极的太阳电池,丰富化合物薄膜太阳电池的理论与实践,发展能低成本、规模化开发利用的新型太阳电池,具有重要的理论和应用价值。
结项摘要
本项目针对Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜的制备还未直接以廉价的CZTS材料为源,普遍通过相应金属或其硫化物的多层薄膜在含硫的气氛中高温退火来形成,且只能依照玻璃/Mo/CZTS/CdS/透明导电薄膜/金属栅电极的结构次序来构建太阳电池,制备过程繁琐、成本高的研究现状,重点围绕CZTS半导体材料粉体的制备,CZTS薄膜的真空热蒸发、脉冲激光、磁控溅射法沉积,以及新结构导电玻璃FTO/n-CdS/p-CZTS/金属背电极的CZTS薄膜太阳电池组装三个方面开展了系统的研究工作,明确了相关材料、薄膜、器件的制备、组成、微结构、界面与性能之间的关系,掌握了符合化学计量比、纯相、不含有机物、廉价、能批量生产的CZTS半导体材料粉体的制备与质量控制技术,获得了真空热蒸发、脉冲激光、磁控溅射法沉积CZTS薄膜以及新结构CZTS薄膜太阳电池组装过程的关键技术参数;所制备CZTS半导体材料粉体的化学组成为Cu : Zn : Sn : S = 1.90 : 0.94 : 1.00 : 4.30,组装的结构为FTO/n-CdS/p-CZTS/Al的薄膜太阳电池,其短路电流密度为1.76 mAcm-2、开路电压为0.493 V、填充因子为0.42、光电转换效率为0.36 %。此外,还初步探讨了CZTS薄膜的热解法制备及其作为量子点敏化太阳电池对电极、CZTS 半导体材料各组成元素的价态、n-SnS2薄膜作为化合物薄膜太阳电池常用窗口层n-CdS薄膜的替代品等内容;发现热解法制备的CZTS薄膜的界面传输电阻只有18.55 Ω,而热解法制备的铂黑电极的界面传输电阻为950 Ω,组装的CdS/CdSe量子点敏化太阳电池,热解法制备CZTS薄膜对电极的短路电流密度为13.33 mAcm-2、开路电压为0.52 V、填充因子为0.45、光电转换效率为3.14 %,而铂黑对电极的短路电流密度为13.38 mAcm-2、开路电压为0.51 V、填充因子为0.34、光电转换效率为2.32 %。项目顺利完成了申请书和计划书中的研究内容和研究计划,达到了预期目标,相关结果对丰富化合物薄膜太阳电池的理论与实践,发展能低成本、规模化开发利用的新型太阳电池,具有重要的理论和应用价值。
项目成果
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
射频磁控溅射法制备Cu_2ZnSnS_4薄膜
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:电子元件与材料
- 影响因子:--
- 作者:文亚南;李琳;陈士荣;史成武;梁齐
- 通讯作者:梁齐
Pyrolysis preparation of Cu2ZnSnS4 thin film and its application to counter electrode in quantum dot-sensitized solar cells
Cu2ZnSnS4薄膜的热解制备及其在量子点敏化太阳能电池对电极中的应用
- DOI:10.1016/j.electacta.2013.11.168
- 发表时间:2014-02
- 期刊:Electrochimica Acta
- 影响因子:6.6
- 作者:Yanru Zhang;史成武;Xiaoyan Dai;Feng Liu;Xiaqin Fang;Jun Zhu
- 通讯作者:Jun Zhu
Influence of annealing on characteristics of tin disulfide thin films by vacuum thermal evaporation
退火对真空热蒸发二硫化锡薄膜特性的影响
- DOI:10.1016/j.tsf.2012.03.050
- 发表时间:2012-05
- 期刊:Thin Solid Films
- 影响因子:2.1
- 作者:Shi, Chengwu1, 2;Chen, Zhu1, 2;Shi, Gaoyang1, 2;Sun, Renjie1;Zhan, Xiaoping1, 2;Shen, Xinjie1, 2
- 通讯作者:Shen, Xinjie1, 2
Deposition of Cu2ZnSnS4 thin films by vacuum thermal evaporation from single quaternary compound source
单一四元化合物源真空热蒸发沉积 Cu2ZnSnS4 薄膜
- DOI:10.1016/j.matlet.2012.01.018
- 发表时间:2012-04-15
- 期刊:MATERIALS LETTERS
- 影响因子:3
- 作者:Shi, Chengwu;Shi, Gaoyang;Yao, Min
- 通讯作者:Yao, Min
铜锌锡硫半导体薄膜材料的制备与表征(英文)
- DOI:--
- 发表时间:2011
- 期刊:硅酸盐学报
- 影响因子:--
- 作者:史成武;史高杨;陈柱;孙人杰;夏梅
- 通讯作者:夏梅
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其他文献
射频磁控溅射法制备SnS2薄膜结构和光学特性的研究
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:刘丹丹;梁齐;史成武;于永强
- 通讯作者:于永强
钙钛矿太阳电池的研究进展
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:化工进展
- 影响因子:--
- 作者:刘成;沈璐颖;徐郑羽;王冉;赵高超;史高杨;代晓艳;史成武
- 通讯作者:史成武
膜厚对射频磁控溅射法制备的SnS 薄膜结构和光学性质的影响
- DOI:--
- 发表时间:2015
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:梁齐;刘磊;马明杰;史成武
- 通讯作者:史成武
快速退火对PLD法制备SnS薄膜结构和光学性质的影响
- DOI:--
- 发表时间:2015
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:刘丹丹;郭慧尔;史成武;梁齐
- 通讯作者:梁齐
射频磁控溅射法制备SnS薄膜及其结构和光学特性
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:李学留;李琳;史成武;梁齐
- 通讯作者:梁齐
其他文献
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