InN基窄带隙半导体材料的加压MOVPE生长与物性研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61106003
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:30.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0401.半导体材料
- 结题年份:2014
- 批准年份:2011
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2012-01-01 至2014-12-31
- 项目参与者:董鑫; 杨德超; 史志峰; 李冰; 赵跃; 陈丽;
- 关键词:
项目摘要
在InN的禁带宽度从普遍接受的1.9eV进一步被认定为更窄的带隙值0.64eV之后,近年来InN基材料已逐渐成为III族氮化物半导体材料中的研究热点。但由于InN低的分解温度和高的氮平衡蒸气压,制备高质量InN很困难,特别是通过传统的低压或常压金属有机化合物气相外延(MOVPE)很难达到预定目标。本项目以为可用于光通信系统的InN基红外激光器提供高质量的InN基材料作为目标,提出采用加压MOVPE生长和独特的薄气流层横型炉设计的新方案,通过加大反应室氮分压抑制InN分解,实现InN高温生长和薄膜质量的提高,解决InN与InGaN之间生长温度差异问题,同时开展InN基材料的加压生长机理和材料物性的研究。本项目研究将为制备高质量的InN薄膜和InN/InGaN量子阱结构材料开辟一条新途径,提供InN相关的基本物理参数,有效促进InN基材料在光电器件中的应用和发展。
结项摘要
近年来InN基材料已逐渐成为III族氮化物半导体的研究热点。但由于InN低的分解温度和高的氮平衡蒸气压,制备高质量InN很困难,特别是通过传统的低压或常压MOVPE很难达到预定目标。本项目提出采用加压MOVPE生长的新方案,通过加大反应室氮分压抑制InN分解,实现了InN高温生长和薄膜质量的提高,同时开展了材料物性的研究。.在本项目执行期间,我们做了以下五个方面的研究工作:.第一,加压MOVPE法制备InN薄膜及其特性研究。我们采用不锈钢材质的水平式MOVPE反应室在2个大气压下生长InN薄膜,研究了生长温度对InN薄膜特性的影响。研究结果显示,在675°C左右很小的生长温度区间内生长的InN薄膜样品表现出最好的光学和电学性质。.第二,高质量N极性GaN模板的生长研究。我们采用MOVPE法在(0001)面蓝宝石衬底上外延生长了原子级表面光滑的N极性GaN薄膜。通过优化生长参数,已经获得了高质量N极性GaN薄膜,薄膜(0002)面半高全宽仅为50arcsec。高质量N极性GaN可以作为InN基材料的生长模版。.第三,N极性GaN模版上InN基材料生长研究。我们用MOVPE方法制备了N极性InxGa1-xN(0≤x≤1)薄膜,并研究了生长参数对InGaN薄膜的晶体质量以及光学特性的影响。在优化的InN和InGaN生长参数基础上制备了InN/InGaN量子阱,测试并分析了量子阱的光学特性。.第四,InN基异质结的电致发光特性及能带排列研究。制备了n-InN/p-GaN的异质结发光二极管,在正向偏压下,获得了来自InN侧的近红外1.5µm电致发光。并详细研究了n-InN纳米点/p-Si异质结器件及其在室温下的电学特性。另外,利用X射线光电子能谱直接对InN/6H-SiC异质结的价带补偿进行了测量。测得异质结价带补偿量为-0.10+/-0.23 eV,导带补偿量为-2.47+/-0.23 eV,说明该异质结为II型能带排列结构。.第五,其它GaN基相关异质结构器件研究。为在后续研究中设计新颖的器件结构需要,我们探索性制备了三种基于GaN的异质结发光器件。一种是n-ZnO纳米墙网络/p-GaN异质结发光器件,另一种是n-ZnO纳米线阵列/ZnO单晶薄膜/p-GaN异质结发光器件,还有一种是p-ZnO:As/n-GaN/n-SiC(6H)异质结发光器件。
项目成果
期刊论文数量(22)
专著数量(0)
科研奖励数量(1)
会议论文数量(8)
专利数量(0)
Effect of Phase Purity on Dislocation Density of Pressurized-Reactor Metalorganic Vapor Phase Epitaxy Grown InN
相纯度对加压反应堆金属有机气相外延生长InN位错密度的影响
- DOI:10.1143/jjap.51.04dh02
- 发表时间:2012
- 期刊:Jpn. J. Appl. Phys
- 影响因子:--
- 作者:Iwabuchi T;Liu Y;Kimura T;Zhang YT;Prasertsuk K;Watanabe H;Usami N;Katayama R;Matsuoka T
- 通讯作者:Matsuoka T
Band alignment of InN/6H-SiC heterojunction determined by x-ray photoelectron spectroscopy
X 射线光电子能谱测定 InN/6H-SiC 异质结的能带排列
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:Applied Physics Letters
- 影响因子:4
- 作者:Qiang Jing;Guoguang Wu;Yuantao Zhang;Fubin Gao;Xupu Cai;Yang Zhao;Wancheng Li;Guotong Du
- 通讯作者:Guotong Du
p-Type NiZnO thin films grown by photo-assist metal–organic chemical vapor deposition
光辅助金属有机化学气相沉积法生长 p 型 NiZnO 薄膜
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:Journal of Alloys and Compounds
- 影响因子:6.2
- 作者:Wang; Jin;Dong; Xin;Zhang; Baolin;Zhang; Yuantao;Wang; Hui;Shi; Zhifeng;Zhang; Shikai;Yin; Wei;Du; Guotong
- 通讯作者:Guotong
Metal-organic Chemical Vapor Deposition of GaSb/GaAs Quantum Dots: the Dependence of the Morphology on Growth Temperature and Vapour V/III Ratio
GaSb/GaAs 量子点的金属有机化学气相沉积:形貌对生长温度和蒸气 V/III 比的依赖性
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:Chem. Res. Chin. Univ.
- 影响因子:--
- 作者:Yang; Haoyu;Liu; Renjun;Wang; Liankai;Li; Tiantian;Li; Guoxing;Zhang; Yuantao (通讯作者);Zhang; Baolin
- 通讯作者:Baolin
Photofacilitated controllable growth of ZnO films using photoassisted metal organic chemical vapor deposition
利用光辅助金属有机化学气相沉积光促进可控生长 ZnO 薄膜
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:Crystal Growth & Design
- 影响因子:--
- 作者:Xia; Xiaochuan;Zhang; Shikai;Yin; Wei;Wang; Hui;Wang; Jin;Dong; Xin;Zhang; Yuantao (通讯作者);Zhang; Baolin;Du; Guotong
- 通讯作者:Guotong
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- 期刊:半导体学报
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- 作者:张源涛;马艳;杜国同;张宝林
- 通讯作者:张宝林
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