利用电晕放电控制化学气相沉积输运过程的探索
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60376006
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:26.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0401.半导体材料
- 结题年份:2006
- 批准年份:2003
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2004-01-01 至2006-12-31
- 项目参与者:储金宇; 张荣; 单春贤; 李维斌; 张红;
- 关键词:
项目摘要
化学气相沉积(包括CVD和MOCVD)生长单晶和多晶薄膜,是制备微电子和光电器件的一项关键工艺。控制CVD反应器中气体的输运过程,获得基片上方均匀的流场和温场分布,对于薄膜的生长质量和生长速率至关重要,也是现代CVD反应器设计的最基本的要求。本项目提出一种全新的控制CVD反应器内气体输运过程的方案,即在CVD反应器中加入电晕放电装置,利用电晕等离子体使气体荷电,再利用外加电场来影响带电气体的流动,使基片上方保持均匀的层流流动和均匀的基片温度,从而获得一种比目前的机械旋转和分层流更好的控制气体输运的方法,得到更好的薄膜生长质量和更快的薄膜生长速率。该项研究有望导致一种更优的CVD反应器的问世。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(3)
专利数量(0)
Design of a reverse flow showe
一种逆流式淋浴器的设计
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:R.Zuo, Q.Xu, H.Zhang
- 通讯作者:R.Zuo, Q.Xu, H.Zhang
反向流动垂直喷淋式MOCVD反应器
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:人工晶体学报,已接受,2005年5期发表
- 影响因子:--
- 作者:徐谦;左然
- 通讯作者:左然
径向流动MOCVD输运过程的数值模
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:人工晶体学报,2005,34(6)
- 影响因子:--
- 作者:左然;张红;徐谦
- 通讯作者:徐谦
径向三重流MOCVD反应器输运过程
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:半导体学报,2005,26(5)
- 影响因子:--
- 作者:左然;张红;刘祥林
- 通讯作者:刘祥林
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- 期刊:人工晶体学报
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- 通讯作者:张红
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