基于近场超级透镜的亚波长纳米光刻技术的研究

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项目介绍
AI项目解读

基本信息

  • 批准号：
    60906052
  • 项目类别：
    青年科学基金项目
  • 资助金额：
    22.0万
  • 负责人：
    郭小伟
  • 依托单位：
    电子科技大学
  • 学科分类：
    F0406.集成电路器件、制造与封装
  • 结题年份：
    2012
  • 批准年份：
    2009
  • 项目状态：
    已结题
  • 起止时间：
    2010-01-01 至2012-12-31

项目摘要

传统光刻技术因衍射极限无法加工亚波长尺寸的微细结构，所以超衍射极限的微细加工技术一直是人们追求的目标，其研究具有重要的科学意义与应用价值。.本项目提出一种利用近场超级透镜结构来实现超衍射极限的纳米光刻方法，并研究解决其关键技术。项目的研究内容包括近场超级透镜结构超衍射极限成像的物理机制、超级透镜结构的设计与制作、建立光刻实验系统探索近场光刻的实验工艺等。重点解决的关键技术是近场超级透镜结构的光学传递函数、超级透镜结构膜层均匀性的制作工艺和基于近场超级透镜的光刻工艺条件等。研究将从理论分析、模拟彷真和原理性器件的实验等方面对其所提出方法进行验证，并探索其光刻质量改善的有效途径。.此方法满足微纳光、电子学领域纳米结构制作高分辨、低成本加工等诸多特殊要求，可望对极大规模集成电路和微纳光子、电子学的发展有重要的促进作用。

结项摘要

本课题深入分析了光波在超级透镜结构中的传输过程，探索了超衍射极限成像物理机制，研究了表面等离子体对倏逝波多种增强机理，提出了两种长程表面等离子体纳米光刻方案；分析了超级透镜结构的频谱传递能力，论证了在材料参数数值上不匹配的情况下不同倏逝波成像具有不同的焦深；研究了不同结构透镜成像特点，发现了周期性结构成像会引起频率加倍现象，提出优化金属介电常数来提高光刻成像图案的对比度和焦深；编写了多层结构光谱传递数值程序，设计并制作出超级透镜结构；探索了干涉技术和微球自组装技术制作不同尺度掩膜版的理论与实验，开发出一种新型的微球自组装技术，通过透镜结构加工出纳米图案，实现了约七分之一波长的光刻分辨力。. 上述结果论证了超衍射极限光刻成像，对超衍射纳米光学光刻技术进一步发展具有一定的参考作用。

项目成果

期刊论文数量（8）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（3）
专利数量（0）
Coupled surface plasmon interference lithography based on a metal-bounded dielectric structure
基于金属介电结构的耦合表面等离子体干涉光刻
  • DOI：
    10.1063/1.3517793
  • 发表时间：
    2010-12
  • 期刊：
    Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    3.2
  • 作者：
    Guo, Xiaowei;Dong, Qiming
  • 通讯作者：
    Dong, Qiming
long range surface Plasmon interference lithography
长距离表面等离子体干涉光刻
  • DOI：
    --
  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    Microelectronic Engineering
  • 影响因子：
    2.3
  • 作者：
    Xiaowei Guo;Qiming Dong
  • 通讯作者：
    Qiming Dong
Improving the imaging quality of MOEs in DMD-based maskless lithography
提高基于 DMD 无掩模光刻中 MOE 的成像质量
  • DOI：
    10.1016/j.mee.2009.11.055
  • 发表时间：
    2010-05
  • 期刊：
    Microelectronic Engineering
  • 影响因子：
    2.3
  • 作者：
    Guo, XiaoWei;Liu, Yongzhi
  • 通讯作者：
    Liu, Yongzhi
Numerical analysis of SPP maskless interference lithography system
SPP无掩模干涉光刻系统数值分析
  • DOI：
    --
  • 发表时间：
    --
  • 期刊：
    Guangzi Xuebao/acta Photonica Sinica
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    Qiming Dong;Xiaowei Guo
  • 通讯作者：
    Xiaowei Guo
Optical superlens imaging system for near field nanolithography
用于近场纳米光刻的光学超透镜成像系统
  • DOI：
    10.1016/j.ijleo.2012.02.039
  • 发表时间：
    2013-05
  • 期刊：
    Optik - International Journal for Light and Electron Optics
  • 影响因子：
    --
  • 作者：
    Xiaowei Guo;Qiming Dong
  • 通讯作者：
    Qiming Dong

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其他文献

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    韩道瑞;曹广民;郭小伟;张法伟;李以康;林丽;李婧;唐艳鸿;古松
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    古松
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    曹广民
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    郭小伟;韩道瑞;张法伟;李以康;林丽;李婧;曹广民
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    曹广民
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  • 发表时间：
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  • 期刊：
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  • 作者：
    林丽;李以康;张法伟;郭小伟;曹广民
  • 通讯作者：
    曹广民

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课题项目：调控A型流感病毒诱导IFN-β表达的机制研究

AI项目摘要：

本研究聚焦于TRIM2蛋白在A型流感病毒诱导的IFN-β表达中的调控机制。A型流感病毒是全球性健康问题，其感染可导致严重的呼吸道疾病。IFN-β作为关键的抗病毒因子，其表达水平对抗病毒防御至关重要。然而，TRIM2如何调控IFN-β的表达尚未明确。本研究假设TRIM2通过与病毒RNA或宿主因子相互作用，影响IFN-β的产生。我们将采用分子生物学、细胞生物学和免疫学方法，探索TRIM2与A型流感病毒诱导IFN-β表达的关系。预期结果将揭示TRIM2在抗病毒免疫反应中的作用，为开发新的抗病毒策略提供理论基础。该研究对理解宿主抗病毒机制具有重要科学意义，并可能对临床治疗流感病毒感染提供新的视角。

AI项目思路：

科学问题：TRIM2如何调控A型流感病毒诱导的IFN-β表达？
前期研究：已有研究表明TRIM2参与抗病毒反应，但其具体机制尚不明确。
研究创新点：本研究将深入探讨TRIM2在IFN-β表达中的直接作用机制。
技术路线：包括病毒学、分子生物学、细胞培养和免疫检测技术。
关键技术：TRIM2与病毒RNA的相互作用分析，IFN-β启动子活性检测。
实验模型：使用A型流感病毒感染的细胞模型进行研究。

AI技术路线图

        graph TD
          A[研究起始] --> B[文献回顾与假设提出]
          B --> C[实验设计与方法学准备]
          C --> D[A型流感病毒感染模型建立]
          D --> E[TRIM2与病毒RNA相互作用分析]
          E --> F[TRIM2对IFN-β启动子活性的影响]
          F --> G[IFN-β表达水平测定]
          G --> H[TRIM2功能丧失与获得研究]
          H --> I[数据收集与分析]
          I --> J[结果解释与科学验证]
          J --> K[研究结论与未来方向]
          K --> L[研究结束]
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