有关硅基材料的微/纳米尺度辐射传热
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50606001
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:25.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0603.传热传质学
- 结题年份:2009
- 批准年份:2006
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2007-01-01 至2009-12-31
- 项目参与者:付超奇; 李欣; 张志勇; 路益嘉;
- 关键词:
项目摘要
基于射电物理原理和涨落-耗散理论,数值模拟有关硅基材料的微/纳米尺度辐射传热现象,研究硅基材料在多层薄膜结构的情况下材料的特性参数及薄膜厚度对微/纳米尺度辐射传热的影响,并进一步探讨在一定温度下,如何通过优化材料的特性参数以及多层薄膜结构和薄膜厚度来达到加强和优化微/纳米尺度辐射传热。微/纳米尺度辐射传热在诸如扫描热显微镜(SThM)以及微尺度热光电能量转换装置(TPV)等装置中有很重要的应用,而半导体硅(Si)及其相关化合物(如二氧化硅、碳化硅以及氮化硅等等)是这些装置以及其他各种微电子器件、微/纳米电子机械系统(MEMS/NEMS)制造中广泛使用的材料。因此,本课题所建议的研究不仅具有广泛的应用前景,而且具有重要的理论意义。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(3)
专利数量(0)
Near-field radiative heat transfer between two plane surfaces with one having a dielectric coating
两个平面之间的近场辐射传热,其中一个平面具有介电涂层
- DOI:10.1016/j.jqsrt.2009.02.007
- 发表时间:2009-08-01
- 期刊:JOURNAL OF QUANTITATIVE SPECTROSCOPY & RADIATIVE TRANSFER
- 影响因子:2.3
- 作者:Fu, C. J.;Tan, W. C.
- 通讯作者:Tan, W. C.
Semiconductor Thin Films Combined With Metallic Grating for Selective Improvement of Thermal Radiative Absorption/Emission
半导体薄膜与金属光栅相结合用于选择性改善热辐射吸收/发射
- DOI:10.1115/1.3056599
- 发表时间:2008
- 期刊:Journal of Heat Transfer-Transactions of the ASME
- 影响因子:--
- 作者:Fu, C. J.;Tan, W. C.
- 通讯作者:Tan, W. C.
Review of near-field thermal radiation and its application to energy conversion
近场热辐射及其在能量转换中的应用综述
- DOI:10.1002/er.1607
- 发表时间:2009-10-25
- 期刊:INTERNATIONAL JOURNAL OF ENERGY RESEARCH
- 影响因子:4.6
- 作者:Basu, S.;Zhang, Z. M.;Fu, C. J.
- 通讯作者:Fu, C. J.
Layered structure of thin films for selectively improved absorptivity/emissivity of thermal radiation
用于选择性提高热辐射吸收率/发射率的薄膜层状结构
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:工程热物理学报
- 影响因子:--
- 作者:Fu, Ce-Ji;Tan, Wen-Chang
- 通讯作者:Tan, Wen-Chang
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其他文献
微光栅对SiC/光子晶体结构热辐射特性的调控
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:工程热物理学报
- 影响因子:--
- 作者:王卫杰;符策基;谭文长
- 通讯作者:谭文长
其他文献
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