HfMxOy栅介质/应变Si堆叠结构界面及特性研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50802005
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:20.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0207.无机非金属半导体与信息功能材料
- 结题年份:2011
- 批准年份:2008
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2009-01-01 至2011-12-31
- 项目参与者:王玫; 王海龙; 周博; 燕路; 卜沈平;
- 关键词:
项目摘要
成功制备并应用于特征长度为45纳米晶体管的铪(Hf)基高k栅介质材料(k:介电常数),是基于其高的k值与低的漏电和能耗特性。随着器件特征长度的缩短,需要具有更加优异介电性能的新型高k材料。而Hf基高k栅介质的引入,引起沟道区载流子迁移率较大幅度地下降,可以通过应变Si技术得到改善。本课题将结合Hf基高k材料与应变Si技术各自的优势,以应变Si为衬底,利用超高真空多靶磁控溅射等技术,开展稀土元素(如Lu、Sr等)掺杂的Hf基高k栅介质薄膜(HfMxOy,M:稀土金属元素)研究。在探明稀土元素掺杂对HfMxOy薄膜微结构与电学特性影响的基础上,系统研究HfMxOy薄膜与应变Si衬底间界面相互作用机理,以及HfMxOy薄膜/应变Si界面产物的抑制,更多地探索HfMxOy栅介质/应变Si堆叠结构的各项电学参数,以改善栅介质层的质量,提高器件的运行速度,拓展Hf基高k薄膜在45纳米以下器件中的应用。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(14)
专著数量(1)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Donor doping process and white light generation in CaMoO(4) powders with multivalence Pr codoping
多价 Pr 共掺杂 CaMoO(4) 粉末中的施主掺杂过程和白光产生
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
Progress in rare earth doped Hf-based high-k gate dielectrics
稀土掺杂铪基高k栅介质的研究进展
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
Origin of flat-band voltage sharp roll-off in metal gate/high-k/ultrathin- SiO2/Si p-channel metal-oxide-semiconductor stacks
金属栅极/高 k/超薄 SiO2/Si p 沟道金属氧化物半导体堆栈中平带电压急剧滚降的起源
- DOI:10.1063/1.3491292
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
Diffusion behavior of dual capping layers in TiN/LaN/AlN/HfSiOxSi stack
TiN/LaN/AlN/HfSiOxSi 叠层中双覆盖层的扩散行为
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
Role of interface dipole in metal gate/high-k effective work function modulation by aluminum incorporation
界面偶极子在金属栅极/掺铝高 k 有效功函数调制中的作用
- DOI:10.1063/1.3159830
- 发表时间:--
- 期刊:
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- 作者:
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