多孔低介电常数薄膜制备及其表面等离子增强保护和热机械性能研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60476011
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:24.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0406.集成电路器件、制造与封装
- 结题年份:2008
- 批准年份:2004
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2005-01-01 至2008-12-31
- 项目参与者:陈敏娜; 李春芳; 陈世华; 张少武; 段益峰; 卢建夺;
- 关键词:
项目摘要
发展新一代层间介质材料所遇到的最大困难是它必须具有较低的介电常数,耐压性和低漏电流等,同时要经受封装时高温处理过程。这就需要具有较好的热机械性能,在高温下保持热力学和机械参数稳定可靠,这对于纯有机材料是很困难的,而无机材料存在工艺复杂,介电常数高等缺点。采用有机与无机复合材料是解决这一困难的有效途径。本项目拟采用环状硅倍半氧烷作为低介电常数薄膜的母体基块,以期得到低介电常数,电性能和热机械性能更稳
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(5)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
The preparation and characterization of porous low dielectric constant oligomeric MSSQ films
多孔低介电常数低聚MSSQ薄膜的制备及表征
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
Nanoporous Structure in Low-Dielectric Films with Positronium Annihilation Lifetime Spectroscopy
利用正电子湮灭寿命光谱研究低介电薄膜中的纳米孔结构
- DOI:10.1088/0256-307x/22/6/053
- 发表时间:2005-06
- 期刊:Chinese Physics Letters
- 影响因子:3.5
- 作者:
- 通讯作者:
self-similarity model for dielectric constant of porous ultra low-k dielectrics
多孔超低k电介质介电常数的自相似模型
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
Probing Cu Diffusion barrier layers on Porous Low-k Films by Posireonium Annihilation Lifetime Spectroscopy
通过正鎓湮灭寿命光谱探测多孔低 k 薄膜上的铜扩散阻挡层
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:
- 通讯作者:
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其他文献
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- 期刊:南昌大学学报(医学版)
- 影响因子:--
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- 通讯作者:冯珍
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- 期刊:同济大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
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- 通讯作者:刘姣
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- DOI:--
- 发表时间:2016
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- 影响因子:--
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- 通讯作者:胡一帆
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- 作者:张帆;胡一帆;胡泽宇
- 通讯作者:胡泽宇
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- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:计算机工程与应用
- 影响因子:--
- 作者:胡一帆;胡友彬;李骞;耿冬冬
- 通讯作者:耿冬冬
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