高取向钨青铜结构铁电、电光薄膜材料研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50372085
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:24.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0206.功能陶瓷
- 结题年份:2006
- 批准年份:2003
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2004-01-01 至2006-12-31
- 项目参与者:莫党; 蒋志洁; 车宇; 郭扬铭; 陶科玉; 李芳; 王正;
- 关键词:
项目摘要
采用磁控溅射、激光脉冲沉积技术研究钨青铜结构铁电、电光薄膜材料在不同衬底上的生长制备条件,生长制备出具有高取向、高质量的钨青铜结构铁电、电光薄膜材料,如:KNSBN, BSTN, SCNN等。通过能谱分析\X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜研究,确定薄膜的组分、晶态结构、取向和表面形貌;通过椭偏光谱、透射光谱的测量和分析研究,得到薄膜的折射率和消光系数等光学参数谱及变化规律;用反射光栅测量技术测量
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(5)
专利数量(0)
铌酸锶钡薄膜制备及椭偏光谱研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:功能材料(增),2004, 35,P178-180
- 影响因子:--
- 作者:王正;张曰理*;郭扬铭;莫党
- 通讯作者:莫党
薄膜的制备及性能研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:中山大学学报:自然科学版. 2006, 45(6), P125-127
- 影响因子:--
- 作者:杜凤娟;张曰理*;刘毅;阳生红
- 通讯作者:阳生红
Growth and Optical Properties
生长和光学特性
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:Yueli Zhang*, Keyu Tao, Ying M
- 通讯作者:Yueli Zhang*, Keyu Tao, Ying M
Epitaxial Growth and optical p
外延生长和光学器件
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:
- 影响因子:--
- 作者:Y L Zhang*, C L MAK, K H WONG,
- 通讯作者:Y L Zhang*, C L MAK, K H WONG,
利用调制式椭偏仪测量薄膜电光系
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:红外与毫米波学报, 2005, Vol. 24 , P31-33
- 影响因子:--
- 作者:李芳;王杰;王丹阳;莫党*;陈
- 通讯作者:陈
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其他文献
Al-Y共掺杂ZnO透明导电薄膜制备及光电性能研究
- DOI:--
- 发表时间:2011
- 期刊:中山大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
- 作者:蒋志洁;张曰理;汤健;王旭升
- 通讯作者:王旭升
Spectroscopic ellipsometry investigations of porous SiO2 films prepared by glancing angle deposition
掠射角沉积制备多孔 SiO2 薄膜的光谱椭圆测量研究
- DOI:10.1002/sia.5308
- 发表时间:2013-11
- 期刊:Surface and Interface Analysis
- 影响因子:1.7
- 作者:阳生红;张曰理
- 通讯作者:张曰理
热处理温度对溶胶-凝胶法制备的Ce_(0.97)Co_(0.03)O_2薄膜结构和光学性能的影响
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:中山大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
- 作者:阳生红;张曰理
- 通讯作者:张曰理
溶胶-凝胶法制备Y掺杂ZnO薄膜及其光电性能研究
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:材料导报
- 影响因子:--
- 作者:阳生红;张曰理;王旭升;汤健
- 通讯作者:汤健
水热法制备稀土掺杂铁酸铋粉末及其性能研究
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:材料导报
- 影响因子:--
- 作者:唐文龙;阳生红;张曰理
- 通讯作者:张曰理
其他文献
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