放电等离子体极紫外光刻光源关键物理及技术问题研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60838005
- 项目类别:重点项目
- 资助金额:200.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0516.交叉学科中的光学问题
- 结题年份:2012
- 批准年份:2008
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2009-01-01 至2012-12-31
- 项目参与者:程元丽; 张潮海; 赵永蓬; 夏元钦; 陈德应; 张兴强; 艾刚; 吕鹏; 王栾伟;
- 关键词:
项目摘要
Z箍缩放电等离子体极紫外(EUV)光源,巧妙地将惯性约束核聚变中获得高温、高密度等离子体的Z箍缩技术移植到小尺寸放电结构中,产生相同高温的等离子体所需放电电流大幅减少,降低了对放电装置的要求。这种光源具有结构简单紧凑、尺寸小、效率高、投资及运营成本低等特点,是能够应用于极紫外光刻、辐射计量、实验室研究等领域的一种可实用化的软X射线源。.极紫外光刻(13.5nm为工作波长)是下一代实现更小刻线(32nm以下)的光刻技术之一。本项目拟针对极紫外光刻研究一种小型、高效、稳定的Z箍缩放电EUV光源,重点是通过研究Z箍缩高温高密度等离子体产生13.5nm强辐射的物理机制,在优化装置设计、提高转换效率、有效冷却电极,减少碎片产生及提高稳定性上探索新方法、新技术,为国内开展极紫外光刻及辐射计量等相关研究所需的高功率、低碎屑、可连续工作的EUV光源解决关键物理及技术问题。
结项摘要
极紫外光刻(13.5nm为工作波长)是下一代实现更小刻线(32nm以下)的光刻技术之一。而实现极紫外光刻的关键取决于是否有符合应用标准的、适于工业生产的EUV光源。在各中EUV光源方案中,放电等离子体EUV光源有结构简单紧凑、尺寸小、效率高、投资及运营成本低等特点,是一种重要的EUV光源。此外,它还能够应用于辐射计量等实验室研究等领域。.国际上有些技术参数尚保密的情况下,本课题组首先通过自己的理解、理论研究和计算,确定了装置的重要参数。在理论、实验相结合的研究过程中,不断加深对物理过程的理解,不断地改进实验方案和实验装置,最终在现有装置和环境尚存在着很多难以克服的困难下,实现了13.5nm辐射光输出,并通过深入的理论和实验研究,使装置基本达到了比较稳定的工作,同时获得了在现有装置下接近最佳的工作条件。此外,通过在Xe气中掺He等技术大幅提高了13.5nm辐射光功率。在国内技术空白的条件下,创新性思维研制了建造了重频1kHz毛细管放电极紫外光刻光源系统,独立设计、研制了全部的各单元部件,突破了国内相关技术空白。.理论上,利用Cowan程序计算得到了Xe离子实现13.5nm辐射光输出的关键原子参数,并采用碰撞-辐射模型计算得到了Xe离子态分布与气压和电子温度的关系,二者结合模拟出了不同气压和电子温度条件下的辐射谱,为光谱分析和改进放电条件提供了理论指导。同时,采用磁流体力学模型计算了不同毛细管内径、放电电流和气压条件下毛细管内等离子体演变过程,指导改善放电条件,从而实现13.5nm辐射光输出的最佳实验条件。利用雪靶模型,模拟了等离子体压缩过程与放电电流、气压的关系,并与自制的极紫外探测器测量结果相比较,发现了毛细管放电过程中存在多次Z 箍缩的物理过程。
项目成果
期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(6)
专利数量(6)
Optical design for EUV Lithography source collector
EUV光刻光源收集器的光学设计
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Chinese Optics Letters
- 影响因子:3.5
- 作者:Shuqing Zhang;Qi Wang;Dongyuan Zhu;Runshun Li;Chang Liu
- 通讯作者:Chang Liu
A new IGBT control and drive circuit for high-power full-bridge inverter for electrostatic precipitators
一种新型静电除尘器大功率全桥逆变器IGBT控制与驱动电路
- DOI:10.1016/j.elstat.2012.11.025
- 发表时间:2013-06
- 期刊:Journal of Electrostatics
- 影响因子:1.8
- 作者:J.D. Zhu;Jiaqian Liang;Y. Lu;C.H. Zhang
- 通讯作者:C.H. Zhang
放电等离子体极紫外光源中的主脉冲电源
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:强激光与粒子束
- 影响因子:--
- 作者:吕鹏;刘春芳;张潮海;赵永蓬;王骐;贾兴
- 通讯作者:贾兴
Xenon Discharge-Produced Plasma Radiation Source for EUV Lithography
用于 EUV 光刻的氙放电产生的等离子体辐射源
- DOI:10.1109/ias.2005.1518784
- 发表时间:2005
- 期刊:IEEE Transactions on Industry Applications
- 影响因子:4.4
- 作者:C. H. Zhang;H. Akiyama;P. Lv;Y. P. Zhao;Q. Wang;S. Katsuki;T. Namihira;H. Horta;H. Imamura;Y. Kondo
- 通讯作者:Y. Kondo
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- 作者:蒋立辉;赵春晖;王骐
- 通讯作者:王骐
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