非极性面ZnO/ZnCdO量子阱结构LED外延材料生长与器件制备研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:51002058
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:20.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0207.无机非金属半导体与信息功能材料
- 结题年份:2013
- 批准年份:2010
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2011-01-01 至2013-12-31
- 项目参与者:余晨辉; 童梁柱; 项若飞; 唐晋宇; 李玉涟; 苏重阳;
- 关键词:
项目摘要
ZnO在制备蓝紫发光二极管(LED)、紫外半导体激光器等方面具有重要应用前景。目前沿传统极性轴c方向生长的ZnO材料与器件还存在p型掺杂困难、量子阱结构LED发光效率受自发极化和压电极化效应影响严重等问题。本课题拟采用MOCVD技术,以晶格匹配度高的非极性面a-GaN/r-Al2O3模板为衬底,并结合凹槽图案化横向外延生长技术,进行高质量非极性a面ZnO薄膜及其ZnO/ZnCdO量子阱结构的生长研究。非极性面的选取,既可为ZnO薄膜的 p型掺杂问题提供可能的解决途径,又可消除极化效应对ZnO基量子阱结构LED发光效率等的不利影响。通过优化非极性面ZnO薄膜生长参数、n型与p型掺杂工艺、ZnO/ZnCdO量子阱结构生长以及欧姆接触电极制作工艺等,同时深入研究材料与器件质量提升过程中如量子限制Stark效应等基本物理问题,最终研制出基于非极性面ZnO/ZnCdO量子阱结构的LED发光器件。
结项摘要
ZnO在制备蓝紫发光二极管(LED)、紫外半导体激光器等方面具有重要应用前景。目前沿传统极性轴c方向生长的ZnO材料与器件还存在p型掺杂困难、量子阱结构LED发光效率受自发极化和压电极化效应影响严重等问题。本课题基于目前极性面ZnO基LED中存在的问题进行非极性面材料学研究。首先通过MOCVD脉冲原子层沉积结合图案化蓝宝石衬底技术,获得了表面平均粗糙度(RMS)为1.2 nm,(11-20)XRC半高宽仅为0.19°,位错密度为1E7 cm-2的a-GaN薄膜。在此基础上,对其表面进行进行凹槽图案化,并以此为模板进行a-ZnO薄膜的不同生长温度下的生长研究。研究表面,随着生长温度的升高,ZnO薄膜表面逐渐改善,当生长温度为600℃时,得到了结构致密、单一取向的a面ZnO薄膜。最后采用PLD技术,在a-GaN/r-sapphire模板上进行了势垒层a-MgZnO的材料生长研究,获得了Mg含量为12 at%,RMS为3.536 nm,XRC半高宽沿c方向为0.316°,沿m方向为0.6°的a-MgZnO薄膜。该结果已达到国际水平。
项目成果
期刊论文数量(13)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(3)
专利数量(0)
Improved Ohmic contacts to plasma etched n-Al0.5Ga0.5N by annealing under nitrogen ambient before metal deposition
通过金属沉积前在氮气环境下退火,改善等离子蚀刻 n-Al0.5Ga0.5N 的欧姆接触
- DOI:10.1063/1.4794099
- 发表时间:2013
- 期刊:Journal of Applied Physics
- 影响因子:3.2
- 作者:Zhang; Wei;Zhang; Jianbao;Wu; Zhihao;Chen; Shengchang;Li; Yang;Tian; Yu;Dai; Jiangnan;Chen; Changqing;Fang; Yanyan
- 通讯作者:Yanyan
Effect of growth temperature of an AlN intermediate layer on the growth mode of AlN grown by MOCVD
AlN中间层生长温度对MOCVD生长AlN生长模式的影响
- DOI:10.1088/0022-3727/46/6/065303
- 发表时间:2013
- 期刊:Journal of Physics D: Applied Physics
- 影响因子:--
- 作者:Chen; C. Q.;Yan; W. Y.;Dai; J. N.;Li; S. L.;Tian; Y.;Hui; Xiong;Zhang; J. B.;Fang; Y. Y.;Wu; Z. H.
- 通讯作者:Z. H.
Tunability of intersubband transition wavelength in the atmospheric window in AlGaN/GaN multi-quantum wells grown on different AlGaN templates by metalorganic chemical vapor deposition
金属有机化学气相沉积在不同 AlGaN 模板上生长的 AlGaN/GaN 多量子阱大气窗口中子带间跃迁波长的可调性
- DOI:10.1063/1.4754543
- 发表时间:2012
- 期刊:Journal of Applied Physics
- 影响因子:3.2
- 作者:C. Q. Chen;W. Y. Yan;Xiong Hui;S. L. Li;Y. Y. Din;Y. Li;Y. Tian;J. N. Dai;Y. Y. Fang
- 通讯作者:Y. Y. Fang
Effects of the AlN buffer layer thickness on the properties of ZnO films grown on c-sapphire substrate by pulsed laser deposition
AlN缓冲层厚度对c型蓝宝石衬底上脉冲激光沉积ZnO薄膜性能的影响
- DOI:10.1016/j.jallcom.2012.08.117
- 发表时间:2013
- 期刊:Journal of Alloys and Compounds
- 影响因子:6.2
- 作者:Xiong; H.;Dai; J. N.;Hui; Xiong;Fang; Y. Y.;Tian; W.;Fu; D. X.;Chen; C. Q.;Li; Mingkai;He; Yunbin
- 通讯作者:Yunbin
The Effect of AlN Nucleation Temperature on the Growth of AlN Films via Metalorganic Chemical Vapor Deposition
AlN成核温度对金属有机化学气相沉积AlN薄膜生长的影响
- DOI:10.1007/s11664-011-1798-3
- 发表时间:2012
- 期刊:Journal of Electronic Materials
- 影响因子:2.1
- 作者:H. WANG;S.L. LI;H. XIONG; .;Z.H. WU;J.N. DAI;Y. TIAN;Y.-Y. FANG;C.Q. CHEN
- 通讯作者:C.Q. CHEN
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其他文献
GaN基多量子阱红外探测器研究进展(特邀)
- DOI:10.3788/irla20211020
- 发表时间:2021
- 期刊:红外与激光工程
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- 作者:吴峰;戴江南;陈长清;许金通;胡伟达
- 通讯作者:胡伟达
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