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Three dimensional nano-lithography: combined electron and ion beam fabrication
三维纳米光刻：电子束和离子束组合制造
基本信息
- 批准号：LP120100161
- 负责人：
- 金额：$ 6.49万
- 依托单位：
- 依托单位国家：澳大利亚
- 项目类别：Linkage Projects
- 财政年份：2012
- 资助国家：澳大利亚
- 起止时间：2012-01-01 至 2015-05-06
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
By adding one more dimension to a planar (hence two dimensional - 2D) lithography, it will become possible to structure and texture materials in three dimensions (3D) by combining electron beam lithography (2D) and ion beam milling (3D) with the highest precision of several nanometres. This will open new applications in photonics and sensing.
通过在平面（因此二维-2D）光刻上增加一个维度，通过将电子束光刻（2D）和离子束铣削（3D）与几个纳米计的最高精度相结合，可以在三个维度（3D）中以三个维度（3D）结构和纹理材料进行结构和纹理材料。这将打开光子学和传感的新应用。
项目成果
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专著数量（0）
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会议论文数量（0）
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