Electrical, optical and photoelectronic properties and applications of semiconductors and insulators, plasma processing for fabrication and etching of thin films
半导体和绝缘体的电学、光学和光电特性及应用,薄膜制造和蚀刻的等离子处理
基本信息
- 批准号:3339-1992
- 负责人:
- 金额:$ 2.23万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Discovery Grants Program - Individual
- 财政年份:1993
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:1993-01-01 至 1994-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
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- 资助金额:
$ 2.23万 - 项目类别:
Discovery Grants Program - Individual
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3339-2000 - 财政年份:2000
- 资助金额:
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3339-1995 - 财政年份:1995
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3339-1992 - 财政年份:1992
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