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Simultaneous In-situ Measurement of Temperature and Thin Film Thickness during processes of semiconductor manufacturing using a laser Interferometric Thermoreflectance optical thermometer
使用激光干涉热反射光学温度计同时现场测量半导体制造过程中的温度和薄膜厚度
基本信息
- 批准号：343903-2007
- 负责人：
- 金额：$ 1.46万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Postdoctoral Fellowships
- 财政年份：2008
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2008-01-01 至 2009-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
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