Development of thin film preparation process by back-surface irradiation PLD method using powder targets
使用粉末靶材的背面照射PLD法薄膜制备工艺的开发
基本信息
- 批准号:26390099
- 负责人:
- 金额:$ 3.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Sputtering deposition of AZO thin films using mixed powder targets
使用混合粉末靶材溅射沉积 AZO 薄膜
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ohshima; T. Maeda; Y. Tanaka; H. Kawasaki; Y. Yagyu; T. Ihara; Y. Suda
- 通讯作者:Y. Suda
Preparation of Functional Thin Films by Pulsed Laser Deposition Method Using a Metal Powder Target
金属粉末靶材脉冲激光沉积法制备功能薄膜
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hiroharu Kawasaki; Tamiko Ohshima; Takeshi Ihara; Yoshihito Yagyu; Yoshiaki Suda
- 通讯作者:Yoshiaki Suda
Thin Film Deposition by Plasma Process with Powder Target
使用粉末靶材进行等离子工艺薄膜沉积
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ohshima; H. Kawasaki; T. Maeda; Y. Tanaka; Y. Yagyu; T. Ihara;Y. Suda
- 通讯作者:Y. Suda
Bacteria Sterilization by Pulsed laser ablation using several kind of Metals and Metal Oxide targets
使用多种金属和金属氧化物靶材进行脉冲激光烧蚀灭菌
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hiroharu Kawasaki; Tamiko Ohshima; Yoshihito Yagyu; Takeshi Ihara; Yoshiaki Suda; Bacteria Sterilization by Pulsed laser ablation using several kind of Metals;Metal Oxide targets
- 通讯作者:Metal Oxide targets
Preparation of functional thin films by backside irradiation pulsed laser deposition using powder targets
使用粉末靶材背面照射脉冲激光沉积制备功能薄膜
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yoshiaki Suda; Hiroharu Kawasaki; Tamiko Ohshima; Takeshi Ihara;Yoshihito Yagyu
- 通讯作者:Yoshihito Yagyu
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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- 影响因子:1.5
- 作者:
Kawasaki Hiroharu;Nishiguchi Hiroshi;Furutani Takumi;Ohshima Tamiko;Yagyu Yoshihito;Ihara Takeshi;Shinohara Masanori;Suda Yoshiaki - 通讯作者:
Suda Yoshiaki
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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