MIR-laser assisted near-field etching ~ contactless super-planarization of compound semiconductors

中红外激光辅助近场蚀刻 ~ 化合物半导体的非接触超平坦化

基本信息

  • 批准号:
    23K03616
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2023-04-01 至 2026-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

项目成果

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吉田 恭平其他文献

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    0
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  • 通讯作者:
    伊原 博隆
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
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    堀川真希;永岡 昭二;河口 勉;吉田 恭平;城崎智洋;田中 裕之;伊原 博隆
  • 通讯作者:
    伊原 博隆
脱アンチモンフリー遮光中間膜~PEDOT/CNFの調製と その近赤外吸収特性の最適化
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    堀川真希;永岡 昭二;河口 勉;吉田 恭平;城崎智洋;田中 裕之;伊原 博隆
  • 通讯作者:
    伊原 博隆
竹CNFを用いたPEDOT導電材料~脱アンチモン遮光ガラス中間膜の開発
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  • 发表时间:
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  • 作者:
    堀川真希;永岡 昭二;河口 勉;吉田 恭平;城崎智洋;田中 裕之;伊原 博隆
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並列処理に適したGDBF復号法の提案
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