Effects of dielectric loss mechanisms at electron trapping sites on damage recovery and reliability improvement in thin films
电子捕获位点介电损耗机制对薄膜损伤恢复和可靠性改进的影响
基本信息
- 批准号：21K18875
- 负责人：
- 金额：$ 4.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份：2021
- 资助国家：日本
- 起止时间：2021-07-09 至 2023-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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Eriguchi Koji其他文献
Functional nitrogen science based on plasma processing: quantum devices, photocatalysts and activation of plant defense and immune systems
基于等离子体处理的功能氮科学：量子器件、光催化剂以及植物防御和免疫系统的激活
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10.35848/1347-4065/ac25dc - 发表时间：
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- 作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro - 通讯作者：
Nozaki Tomohiro
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基于等离子体处理的功能氮科学：量子器件、光催化剂以及植物防御和免疫系统的激活
- DOI：
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- 作者：
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Nozaki Tomohiro
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基于等离子体处理的功能氮科学：量子器件、光催化剂以及植物防御和免疫系统的激活
- DOI：
10.35848/1347-4065/ac25dc - 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：
Kaneko Toshiro;Kato Hiromitsu;Yamada Hideaki;Yamamoto Muneaki;Yoshida Tomoko;Attri Pankaj;Koga Kazunori;Murakami Tomoyuki;Kuchitsu Kazuyuki;Ando Sugihiro;Nishikawa Yasuhiro;Tomita Kentaro;Ono Ryo;Ito Tsuyohito;Ito Atsushi M.;Eriguchi Koji;Nozaki Tomohiro - 通讯作者：
Nozaki Tomohiro
Ion irradiation-induced sputtering and surface modification of BN films prepared by a reactive plasma-assisted coating technique
反应等离子体辅助涂层技术制备BN薄膜的离子辐照诱导溅射和表面改性
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- 发表时间：
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- 影响因子：1.5
- 作者：
Matsuda Takayuki;Hamano Takashi;Asamoto Yuya;Noma Masao;Yamashita Michiru;Hasegawa Shigehiko;Urabe Keiichiro;Eriguchi Koji - 通讯作者：
Eriguchi Koji
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Design of sp-bonds in functional BN films by arc discharge with independent parameter control
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- 批准号：
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- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
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- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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- 批准号：
21J14282 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
マイクロ波精密照射による細胞死制御と可視化－癌セラノスティックス開発を目指して
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- 批准号：
18K12123 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
A Study on Production Technology of Large-Scaled Linear Atmosheric Pressure Microwave Plasma
大型线性常压微波等离子体生产技术研究
- 批准号：
17K05736 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
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建立基于单细胞大规模并行操作获得均匀稳定细胞群的系统
- 批准号：
16H06074 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 4.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)