Polytype Controlled SiC Single Crystal Grwoth

多型控制碳化硅单晶生长

基本信息

  • 批准号:
    18H01891
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.82万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-01 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Effect of Nitrogen / Aluminum on Silicon Carbide Poly-type Stability
氮/铝对碳化硅多型稳定性的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shin;Frédéric Mercier
  • 通讯作者:
    ric Mercier
Effect of nitrogen and aluminium on silicon carbide polytype stability
氮和铝对碳化硅多型体稳定性的影响
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2019.04.018
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    S.Nishizawa;; F.Mercier
  • 通讯作者:
    F.Mercier
CNRS(フランス)
法国国家科学研究中心(CNRS)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
SIMAP/CNRS(フランス)
SIMAP/CNRS(法国)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Investigation of acceptable breakdown voltage variation for parallel-connected SiC MOSFETs during unclamped inductive switching test
研究未钳位电感开关测试期间并联 SiC MOSFET 可接受的击穿电压变化
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/abebc1
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Zaiqi Lou; Wataru Saito;Shin
  • 通讯作者:
    Shin
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NISHIZAWA Shin-ichi其他文献

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    $ 10.82万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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