Heterophotonics fabricated by ultra-precision cutting and room-temperature bonding

通过超精密切割和室温键合制造的异光子学

基本信息

批准号：
17H04925
负责人：
Takigawa Ryo
金额：
$ 15.56万
依托单位：
Kyushu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

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专利数量（0）

Direct bonding of LiNbO3 and SiC wafers at room temperature

室温下直接键合 LiNbO3 和 SiC 晶圆

DOI：
10.1016/j.scriptamat.2019.08.027
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
6
作者：
Takigawa Ryo;Utsumi Jun
通讯作者：
Utsumi Jun

Surface Activated Bonding of LiNbO3 and GaN at Room Temperature

LiNbO3 和 GaN 室温下的表面活化键合

DOI：
10.1149/08605.0207ecst
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Ryo Takigawa; Eiji Higurashi;Tanemasa Asano
通讯作者：
Tanemasa Asano

Room-temperature wafer bonding of LiNbO3 and SiO2 using a modified surface activated bonding method

使用改进的表面激活键合方法进行 LiNbO3 和 SiO2 的室温晶圆键合

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Ryo Takigawa; Eiji Higurashi;Tanemasa Asano
通讯作者：
Tanemasa Asano

イオンビーム活性化接合法による Si上LNOI導波路の作製と光伝搬特性評価

采用离子束激活键合方法在硅上制作 LNOI 波导并评估光学传播特性

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
多喜川良;日暮栄治;浅野種正
通讯作者：
浅野種正

Room-temperature bonding of LiNbO3 and SiO2 usingsurface activated bonding

使用表面活化键合进行 LiNbO3 和 SiO2 的室温键合

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
Ryo Takigawa; Eiji Higurashi; Tanemasa Asano
通讯作者：
Tanemasa Asano

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Takigawa Ryo其他文献

Room-temperature bonding of Al2O3 thin films deposited using atomic layer deposition

使用原子层沉积沉积的 Al2O3 薄膜的室温键合

DOI：
10.1038/s41598-023-30376-7
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
4.6
作者：
Takakura Ryo;Murakami Seigo;Watanabe Kaname;Takigawa Ryo
通讯作者：
Takigawa Ryo

Surface activated bonding of aluminum oxide films at room temperature

室温下氧化铝薄膜的表面活化粘合

DOI：
10.1016/j.scriptamat.2020.09.005
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
6
作者：
Utsumi Jun;Takigawa Ryo
通讯作者：
Takigawa Ryo

Ultrathin adhesive layer between LiNbO3 and SiO2 for bonded LNOI waveguide applications

LiNbO3 和 SiO2 之间的超薄粘合层，用于粘合 LNOI 波导应用

DOI：
10.7567/1347-4065/ab24b6
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Takigawa Ryo;Higurashi Eiji;Asano Tanemasa
通讯作者：
Asano Tanemasa

Fabrication of heterogeneous LNOI photonics wafers through room temperature wafer bonding using activated Si atomic layer of LiNbO3, glass, and sapphire

使用 LiNbO3、玻璃和蓝宝石的活化硅原子层通过室温晶圆键合制造异质 LNOI 光子晶圆

DOI：
10.1016/j.apsusc.2023.156666
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
6.7
作者：
Watanabe Kaname;Takigawa Ryo
通讯作者：
Takigawa Ryo

Investigation of the interface between LiNbO3 and Si fabricated via room-temperature bonding method using activated Si nano layer

研究使用活化的硅纳米层通过室温键合方法制造的 LiNbO3 和 Si 之间的界面

DOI：
10.35848/1347-4065/acc2cb
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Murakami Seigo;Watanabe Kaname;Takigawa Ryo
通讯作者：
Takigawa Ryo

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DOI：
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Low temperature bonding for integrated photonics application

集成光子学应用的低温键合

批准号：
20H02207
财政年份：
2020
资助金额：
$ 15.56万
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)