Development of a low temperature fabrication method of insulator films applicable to next generation electronic devices by the electrochemical oxidation method
通过电化学氧化法开发适用于下一代电子器件的绝缘体薄膜的低温制造方法
基本信息
- 批准号：17K06804
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2017
- 资助国家：日本
- 起止时间：2017-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
電気化学的酸化法で作製したオキシ窒化タンタル/Ta構造とその電気的特性
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- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：髙橋昌男;笹嶋一輝;小山恭平;茂庭昌弘
- 通讯作者：茂庭昌弘
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SAN
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