Development of new radiation tolerant materials by controlling nano-defects

通过控制纳米缺陷开发新型耐辐射材料

基本信息

  • 批准号:
    16H04518
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Large-scale molecular-dynamics simulations of solid phase epitaxy in Si
硅固相外延的大规模分子动力学模拟
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Kohno;M. Ishimaru
  • 通讯作者:
    M. Ishimaru
University of Tennessee/Oak Ridge National Laboratory/North Carolina State University(米国)
田纳西大学/橡树岭国家实验室/北卡罗来纳州立大学(美国)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Compositional effects on radiation tolerance of amorphous silicon oxycarbide
成分对非晶碳氧化硅耐辐射性能的影响
  • DOI:
    10.1016/j.jnucmat.2019.03.012
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.1
  • 作者:
    S. Mizuguchi; S. Inoue; M. Ishimaru; Q. Su;M. Nastasi
  • 通讯作者:
    M. Nastasi
Molecular-dynamics simulations of solid phase epitaxy in silicon: Effects of system size, simulation time, and ensemble
硅固相外延的分子动力学模拟:系统尺寸、模拟时间和整体的影响
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.095503
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    K. Kohno;M. Ishimaru
  • 通讯作者:
    M. Ishimaru
アモルファスGeSnの構造および構造変化の電子線動径分布解析
非晶GeSn结构及结构变化的电子束径向分布分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    稲永航平;東山将士;石丸 学;奥川将行;仲村龍介
  • 通讯作者:
    仲村龍介
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    2021
  • 资助金额:
    $ 11.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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