Universal gate stack for 2D layered channel

适用于 2D 分层沟道的通用栅极堆叠

基本信息

  • 批准号:
    16H04343
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.82万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Graphene field-effect transistor application-electric band structure of graphene in transistor structure extracted from quantum capacitance
石墨烯场效应晶体管应用——从量子电容中提取石墨烯在晶体管结构中的电带结构
  • DOI:
    10.1557/jmr.2016.366
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nagashio Kosuke
  • 通讯作者:
    Nagashio Kosuke
"Interface engineering for 2D layered semiconductors"
“二维层状半导体的接口工程”
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Nagashio
  • 通讯作者:
    K. Nagashio
"2次元原子膜応用のためのゲートスタック形成"
“二维原子膜应用的门堆叠形成”
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    長汐晃輔
  • 通讯作者:
    長汐晃輔
2D materials for nanoelectronics
用于纳米电子学的二维材料
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    A. Toriumi; K. Nagashio
  • 通讯作者:
    K. Nagashio
Fabrication and Surface Engineering of Two-Dimensional SnS Toward Piezoelectric Nanogenerator Application
面向压电纳米发电机应用的二维 SnS 的制造和表面工程
  • DOI:
    10.1557/adv.2018.404
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.8
  • 作者:
    Higashitarumizu Naoki;Kawamoto Hayami;Ueno Keiji;Nagashio Kosuke
  • 通讯作者:
    Nagashio Kosuke
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Nagashio Kosuke其他文献

Influence of interface dipole layers on the performance of graphene field effect transistors
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    10.9
  • 作者:
    Nagamura Naoka;Fukidome Hirokazu;Nagashio Kosuke;Horiba Koji;Ide Takayuki;Funakubo Kazutoshi;Tashima Keiichiro;Toriumi Akira;Suemitsu Maki;Horn Karsten;Oshima Masaharu
  • 通讯作者:
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  • DOI:
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  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.7
  • 作者:
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  • 通讯作者:
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  • 影响因子:
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  • 通讯作者:
    Miyata Yasumitsu
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原子薄 MoS 2 FET 中的量子力学效应
  • DOI:
    10.1088/2053-1583/ab42c0
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    5.5
  • 作者:
    Fang Nan;Nagashio Kosuke
  • 通讯作者:
    Nagashio Kosuke
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了解 2D 异质结构 FET 的界面特性
  • DOI:
    10.1088/1361-6641/aba287
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
    Nagashio Kosuke
  • 通讯作者:
    Nagashio Kosuke

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
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    {{ item.factor }}
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{{ showInfoDetail.title }}

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