Building an academic foundation for balancing ultra-high-speed deposition and ultra-low friction of hard carbon-based coatings

为平衡硬碳基涂层的超高速沉积和超低摩擦奠定学术基础

基本信息

  • 批准号:
    16H04256
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.15万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
テキサス大学オースティン校(米国)
德克萨斯大学奥斯汀分校(美国)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Tribological behavior of unlubricated sliding between a steel ball and Si-DLC deposited by ultra-high-speed coating employing an MVP method
采用 MVP 方法沉积超高速涂层的钢球和 Si-DLC 之间无润滑滑动的摩擦学行为
  • DOI:
    10.1016/j.surfcoat.2017.07.077
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    5.4
  • 作者:
    Tanaka Ippei;Nakano Toshimitsu;Kousaka Hiroyuki;Hashitomi Hiroyuki
  • 通讯作者:
    Hashitomi Hiroyuki
Si含有DLC成膜用炭化水素プラズマの診断 : プラズマ基礎特性の電力依存性
用于含Si DLC膜形成的碳氢化合物等离子体的诊断:基本等离子体特性的功率依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大野 祐也 ; 永井 雅之 ; 小田 昭紀 ; 太田 貴之 ; 上坂 裕之
  • 通讯作者:
    上坂 裕之
スパッタリングを用いたSi含有DLC膜におけるSi含有量依存性
使用溅射的含硅 DLC 薄膜中的硅含量依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三輪侑生;小田昭紀; 上坂裕之; 太田貴之
  • 通讯作者:
    太田貴之
二元スパッタリングで成膜されたSi含有DLC膜のトライボ特性
二元溅射沉积含Si DLC薄膜的摩擦特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三輪 侑生;小田 昭紀;上坂 裕之;太田 貴之
  • 通讯作者:
    太田 貴之
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Kousaka Hiroyuki其他文献

Formation of diamond-like carbon film using high-power impulse magnetron sputtering
高功率脉冲磁控溅射制备类金刚石碳膜
  • DOI:
    10.1016/j.tsf.2019.01.005
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    Iga Kazunori;Oda Akinori;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki
  • 通讯作者:
    Ohta Takayuki
Formation of diamond-like carbon film using high-power impulse magnetron sputtering
高功率脉冲磁控溅射制备类金刚石碳膜
  • DOI:
    10.1016/j.tsf.2019.01.005
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    Iga Kazunori;Oda Akinori;Kousaka Hiroyuki;Ohta Takayuki
  • 通讯作者:
    Ohta Takayuki
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
  • DOI:
    10.1541/ieejfms.142.101
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
  • 通讯作者:
    Oda Akinori
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
  • DOI:
    10.1541/ieejfms.142.101
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
  • 通讯作者:
    Oda Akinori

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

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