Research on Radiation-Hardened CMOS Integrated Circuits using Wide Bandgap SiC Semiconductor(Fostering Joint International Research)

使用宽带隙SiC半导体的抗辐射CMOS集成电路的研究(促进国际联合研究)

基本信息

  • 批准号:
    15KK0240
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 9.07万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016 至 2017
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
4H-SiC Pseudo-CMOS Logic Inverters for Harsh Environment Electronics
适用于恶劣环境电子产品的 4H-SiC 伪 CMOS 逻辑逆变器
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S;C.
  • 通讯作者:
    C.
スウェーデン王立工科大学(スウェーデン)
瑞典皇家理工学院(瑞典)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Low resistance Ti-Si-C ohmic contacts for 4H-SiC power devices using Laser annealing
使用激光退火技术用于 4H-SiC 功率器件的低电阻 Ti-Si-C 欧姆接触
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Milantha De Silva; Teruhisa Kawasaki; Takamaro Kikkawa;Shin
  • 通讯作者:
    Shin
4H-SiC MOSFETs and Logic Inverters for Radiation-Hardened Electronics
用于抗辐射电子产品的 4H-SiC MOSFET 和逻辑逆变器
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shin;Carl
  • 通讯作者:
    Carl
International Workshop on Nanodevice Technologies 2017 (IWNT2017)
2017年纳米器件技术国际研讨会(IWNT2017)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Kuroki Shin-Ichiro其他文献

Kuroki Shin-Ichiro的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Kuroki Shin-Ichiro', 18)}}的其他基金

Research on Silicon-Carbide IoT Platform for Harsh Environment Applications
适合恶劣环境应用的碳化硅物联网平台研究
  • 批准号:
    20H00252
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Research on Silicon Carbide Harsh Environment Electronics
碳化硅恶劣环境电子研究
  • 批准号:
    17H03253
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

相似海外基金

Development of High Mobility and High Reliability SiC MOSFETs by Fluorine-Enhanced Thermal Oxidation
通过氟增强热氧化开发高迁移率和高可靠性 SiC MOSFET
  • 批准号:
    23K03974
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
フェムト秒レーザー改質による透明高分子材料内部への三次元炭素構造の作製とその応用
飞秒激光改性透明高分子材料内三维碳结构及其应用
  • 批准号:
    22KJ2678
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
UVアシスト研磨における高濃度オゾン水供給の効果
供应高浓度臭氧水在紫外辅助抛光中的效果
  • 批准号:
    23K03618
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
SiCフォトニックナノ共振器を用いた高度な光制御の研究
利用碳化硅光子纳米腔进行先进光学控制的研究
  • 批准号:
    22KF0185
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Elucidation of the physical origin of the dominant scattering mechanism of electron mobility in SiC MOS interfaces
阐明 SiC MOS 界面中电子迁移率主要散射机制的物理起源
  • 批准号:
    23K03928
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了