Research of radio-activation due to charge-exchange multi-turn beam injection with stripper foils for high intensity beam
高强度束剥离箔电荷交换多转束注入放射性激活研究
基本信息
- 批准号：16K05027
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
J-PARC RCSにおける荷電変換薄膜からの二次粒子計測
J-PARC RCS 的电荷转换薄膜二次粒子测量
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉本政弘;岡部晃大;原田 寛之;金正 倫計
- 通讯作者：金正 倫計
RADIO-ACTIVATION CAUSED BY SECONDARY PARTICLES DUE TO NUCLEAR REACTIONS AT THE STRIPPER FOIL IN THE J-PARC RCS
J-PARC RCS 剥离箔上的核反应引起的二次粒子的放射性激活
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yoshimoto Masahiro
- 通讯作者：Yoshimoto Masahiro
Measurement of Radio-activation and Evaluation of Activated Nuclides due to Secondary Particles Produced in Stripper Foil in J-PARC RCS.
J-PARC RCS 剥离箔中产生的二次粒子引起的放射性激活测量和激活核素的评估。
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Masahiro Yoshimoto; Kota Okabe; Hiroyuki Harada; Michikazu Kinsho
- 通讯作者：Michikazu Kinsho
Development of Secondary Particles Detection System With Stilbene Organic Scintillator in J-PARC RCS
J-PARC RCS 中二苯乙烯有机闪烁体二次粒子检测系统的开发
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Masahiro Yoshimoto; Kota Okabe; Michikazu Kinsho
- 通讯作者：Michikazu Kinsho
J-PARC RCSにおける荷電変換薄膜からの二次粒子による放射化核種評価
使用来自 J-PARC RCS 中电荷转换薄膜的二次粒子进行活化核素评估
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉本政弘
- 通讯作者：吉本政弘
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
Yoshimoto Masahiro其他文献
Microstructures of ε-Ga2O3 thin film on (100) TiO2 substrate by mist chemical vapor deposition
(100) TiO2 基底雾气化学气相沉积 ε-Ga2O3 薄膜的微观结构
- DOI：
10.1109/imfedk48381.2019.8950694 - 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Tahara Daisuke;Nishinaka Hiroyuki;Arata Yuta;Shimazoe Kazuki;Yoshimoto Masahiro - 通讯作者：
Yoshimoto Masahiro
Epitaxial growth of γ-(AlxGa1-x)2O3 alloy thin films on spinel substrates via mist chemical vapor deposition
雾气化学气相沉积在尖晶石基底上外延生长γ-(AlxGa1-x)2O3合金薄膜
- DOI：
10.1016/j.jallcom.2020.156927 - 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：6.2
- 作者：
Horie Ryuto;Nishinaka Hiroyuki;Tahara Daisuke;Yoshimoto Masahiro - 通讯作者：
Yoshimoto Masahiro
van der Waals epitaxy of ferroelectric ε-gallium oxide thin film on flexible synthetic mica
柔性合成云母上铁电ε-氧化镓薄膜的范德华外延
- DOI：
10.35848/1347-4065/ab6b70 - 发表时间：
2020 - 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：
Arata Yuta;Nishinaka Hiroyuki;Tahara Daisuke;Yoshimoto Masahiro - 通讯作者：
Yoshimoto Masahiro
Heteroepitaxial growth of ε-(AlxGa1-x)2O3 alloy films on c-plane AlN templates by mist chemical vapor deposition
雾气化学气相沉积在 c 面 AlN 模板上异质外延生长 ε-(AlxGa1-x)2O3 合金薄膜
- DOI：
10.1063/1.5021296 - 发表时间：
2018 - 期刊：
- 影响因子：4
- 作者：
Tahara Daisuke;Nishinaka Hiroyuki;Morimoto Shota;Yoshimoto Masahiro - 通讯作者：
Yoshimoto Masahiro
Epitaxial growth of metastable c-plane rhombohedral indium tin oxide using mist chemical vapor deposition
利用雾气化学气相沉积法外延生长亚稳态c面菱面体氧化铟锡
- DOI：
10.1016/j.mssp.2022.106689 - 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：4.1
- 作者：
Shimazoe Kazuki;Nishinaka Hiroyuki;Watanabe Keisuke;Yoshimoto Masahiro - 通讯作者：
Yoshimoto Masahiro
Yoshimoto Masahiro的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}