Leveling nanometer-scale mechanical properties of photopolymerized monomer ultrathin films

光聚合单体超薄膜的纳米级力学性能均化

• 批准号: 15H03860
• 负责人: Nakagawa Masaru
• 金额: $ 11.07万
• 依托单位: Tohoku University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2015-04-01 至 2019-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15H03860/
• 关键词: 光ラジカル重合; 超薄膜; ナノギャップ; ナノ加工; ミクロゲル; 原子間力顕微鏡; ドライエッチング; ナノインプリント技術; ナノ材料; 高分子合成; 光化学; 表面・海面物性; 表面・界面物性; マイクロ・ナノデバイス; 表面電位; 材料加工・処理; 微細加工

项目成果

Surface modification of polyimide laser-drilled screen-printing masks for low-viscosity liquids in print-and-imprint method

印刷压印法中低粘度液体聚酰亚胺激光钻孔丝网印刷掩模的表​​面改性

• 发表时间: 2019
• 影响因子: 1.5
• 作者: T. Nakamura; N. Endo; S. Ito; R. Kuroda; M. Nakagawa
• 通讯作者: M. Nakagawa

Selection of diacrylate monomers for sub-15 nm ultraviolet nanoimprinting by resonance shear measurement

通过共振剪切测量选择用于亚 15 nm 紫外纳米压印的二丙烯酸酯单体

• DOI: 10.1021/acs.langmuir.8b01881
• 发表时间: 2018
• 影响因子: 3.9
• 作者: Ito Shunya;Kasuya Motohiro;Kurihara Kazue;Nakagawa Masaru
• 通讯作者: Nakagawa Masaru

Development of UV-Curable Resins Suitable for Reverse-Tone Lithography for Au Metamaterials Using a Print-and-Imprint Method

使用印刷和压印方法开发适用于金超材料反色调光刻的紫外线固化树脂

• DOI: 10.1246/bcsj.20170280
• 发表时间: 2018
• 影响因子: 4
• 作者: T. Uehara; S. Sato; S. Ito; H. Yano; T. Nakamura; M. Nakagawa
• 通讯作者: M. Nakagawa

重合性液体のシリカナノ空間中での流動性と一桁ナノ造形

二氧化硅纳米空间中可聚合液体的流动性和个位数纳米加工

• 发表时间: 2018
• 作者: 伊東 駿也; 粕谷 素洋; 栗原 和枝; 中川 勝
• 通讯作者: 中川 勝

ポジ型電子線レジストの各プロセスにおける分子レベルでの考察

正电子束光刻胶各工序从分子层面考虑

• 发表时间: 2018
• 作者: 尾﨑 優貴; 伊東 駿也; 中村 貴宏; 中川 勝
• 通讯作者: 中川 勝