Two-dimensional characterization of degradation mechanism in metal/wide-bandgap semiconductor contacts by scanning internal photoemission microscopy

通过扫描内部光电显微镜对金属/宽带隙半导体接触中的退化机制进行二维表征

基本信息

  • 批准号:
    15K05981
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.24万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
ニードル式マイクロディスペンサを用いたナノインク描画と焼結により形成された銀電極の各種基板上での電気的特性の評価
使用针式微分配器在各种基材上纳米墨水拉丝和烧结形成的银电极的电性能评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    柏木行康;斉藤大志;長谷川貴洋;千金正也;塩島謙次;垣内宏之
  • 通讯作者:
    垣内宏之
Development of dual-focus scanning internal photoemission microscopy for mapping of both top and rear surfaces of 3C-SiC layers
开发用于 3C-SiC 层顶面和后表面测绘的双焦点扫描内部光电显微镜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Shiojima; N. Ichikawa;M. Kato
  • 通讯作者:
    M. Kato
界面顕微光応答法による金属/半導体、半導体/半導体界面の2次元評価
使用界面显微光响应方法对金属/半导体和半导体/半导体界面进行二维评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    塩島 謙次
  • 通讯作者:
    塩島 謙次
界面顕微光応答法によるNi/n-GaNの界面反応の二次元評価
使用界面微光响应方法二维评估 Ni/n-GaN 界面反应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    纐纈 悠貴;塩島 謙次
  • 通讯作者:
    塩島 謙次
顕微光応答法による金属/半導体界面の2次元評価
使用显微光响应方法对金属/半导体界面进行二维评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    塩島謙次
  • 通讯作者:
    塩島謙次
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Effects of surface treatment and annealing for Au/Ni/n-GaN Schottky barrier diodes
Au/Ni/n-GaN肖特基势垒二极管表面处理和退火的影响
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Shiojima Kenji;Tanaka Ryo;Takashima Shinya;Ueno Katsunori;Edo Masaharu
  • 通讯作者:
    Edo Masaharu
Mapping of large structural defects in SiC Schottky contacts using internal photoemission microscopy
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  • DOI:
    10.1016/j.mssp.2020.105182
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    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    Shiojima Kenji;Kato Masashi
  • 通讯作者:
    Kato Masashi
Effect of Wafer Off‐Angles on Defect Formation in Drift Layers Grown on Free‐Standing GaN Substrates
晶圆偏角对独立式 GaN 衬底上生长的漂移层缺陷形成的影响
  • DOI:
    10.1002/pssb.201900561
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shiojima Kenji;Horikiri Fumimasa;Narita Yoshinobu;Yoshida Takehiro;Mishima Tomoyoshi
  • 通讯作者:
    Mishima Tomoyoshi
Mapping of photo-electrochemical etched Ni/GaN Schottky contacts using scanning internal photoemission microscopy?comparison between n- and p-type GaN samples
使用扫描内部光电子显微镜绘制光电化学蚀刻的 Ni/GaN 肖特基接触图?n 型和 p 型 GaN 样品之间的比较
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/abdf21
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Matsuda Ryo;Horikiri Fumimasa;Narita Yoshinobu;Yoshida Takehiro;Fukuhara Noboru;Mishima Tomoyoshi;Shiojima Kenji
  • 通讯作者:
    Shiojima Kenji
Estimation of uniformity in Schottky contacts between printed Ni electrode and n-GaN by scanning internal photoemission microscopy
通过扫描内部光电显微镜估计印刷 Ni 电极和 n-GaN 之间肖特基接触的均匀性
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac7bc5
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Shiojima Kenji;Kawasumi Yuto;Yasui Yuto;Kashiwagi Yukiyasu;Tamai Toshiyuki
  • 通讯作者:
    Tamai Toshiyuki

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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

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    $ 3.24万
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