Arc Discharge Properties and Hydrogen Isotope Absorption in Co-deposited Films at Remote Fusion Plasmas

远程聚变等离子体共沉积薄膜的电弧放电特性和氢同位素吸收

• 批准号: 25289336
• 负责人: UESUGI YOSHIHIKO
• 金额: $ 11.15万
• 依托单位: Kanazawa University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2016-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25289336/
• 关键词: トリチウム吸蔵制御; 不純物堆積膜; 核融合周辺プラズマ; 反応性プラズマ; 不純物制御; 水素同位体吸蔵; 水素化炭素膜; 窒素スカベンジャー; プラズマー壁相互作用; リモートプラズマ; 水素金属不純物共体積; 核融合; 窒素スカベンジャー効果; プラズマ-壁相互作用; 低温周辺プラズマ; 周辺プラズマ; 低温反応性プラズマ; ダイバータ; トカマク型核融合炉; トリチウム

项目成果

重水素 / 炭素混合プラズマへの窒素添加による炭素膜成長と重水素吸蔵の抑制

通过向氘/碳混合等离子体中添加氮气来抑制碳膜生长和氘吸收

• 发表时间: 2015
• 作者: 加藤拓郎;山崎嵩朗;水上 愛;上杉喜彦;田中康規;石島達夫
• 通讯作者: 石島達夫

Effects of nitrogen injection on carbon film growth in low temperature hydrogen or deuterium plasmas with methane

氮气注入对含甲烷的低温氢或氘等离子体中碳膜生长的影响

• 发表时间: 2013
• 作者: A. Sasaki;K. Iida;M. Notani;Y. Uesugi;Y. Tanaka;T. Ishijima;S. Masuzaki
• 通讯作者: S. Masuzaki

エネルギー研究センター(米国)

能源研究中心（美国）

Suppression of hydrogenated carbon film deposition and hydrogen isotope retention by nitrogen addition into cold remote H/D and CH4 mixture plasmas

通过向冷远程 H/D 和 CH4 混合等离子体中添加氮气来抑制氢化碳膜沉积和氢同位素保留

• DOI: 10.1016/j.jnucmat.2015.01.017
• 发表时间: 2015
• 期刊: Journal of Nuclear Materials
• 影响因子: 3.1
• 作者: K. Iida;A. Sasaki;M. Notani;Y. Uesugi;Y. Tanaka;T. Ishijima
• 通讯作者: T. Ishijima

Study on Erosion Processes of Hot Molten Cathode in the Stabilized Arc Plasmas

稳定电弧等离子体中热熔阴极侵蚀过程的研究

• 发表时间: 2013
• 作者: Y. Uesugi;T. Ito;N. Takata;Y. Tanaka;T. Ishijima;Y. Yamaguchi
• 通讯作者: Y. Yamaguchi