Optical Properties Evaluation of Individual Nano Phosphors and Investigation of Relationship with Particle Structure using Transmission Electron Microscope

使用透射电子显微镜评估单个纳米荧光粉的光学性质并研究其与颗粒结构的关系

基本信息

批准号：
26286026
负责人：
Uehara Masato
金额：
$ 10.4万
依托单位：
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

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Direct Evaluation about Structure and Optical Property of Individual Multi-shell Quantum Dot by TEM

利用 TEM 直接评价单个多壳量子点的结构和光学性质

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Masato Uehara; Naoyuki Nakahigashi; Yohei Sato; Masami Terauchi
通讯作者：
Masami Terauchi

TEM-EELSによる発光多層ナノ粒子の誘電特性評価

通过 TEM-EELS 评估发光多层纳米粒子的介电性能

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
佐藤庸平;中東尚之;寺内正巳;上原雅人
通讯作者：
上原雅人

マルチシェル型蛍光ナノ粒子の透過電顕を用いた光学特性及び構造評価

使用透射电子显微镜评估多壳荧光纳米颗粒的光学性质和结构

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
上原雅人;佐藤庸平;寺内正巳
通讯作者：
寺内正巳

EELS測定を用いたマルチシェル粒子の誘電応答解析

使用 EELS 测量进行多壳颗粒介电响应分析

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
佐藤庸平;中東尚之;上原雅人;寺内正巳
通讯作者：
寺内正巳

電子線非弾性散乱による発光性多層ナノ粒子の電子構造研究

利用非弹性电子散射研究发光多层纳米粒子的电子结构

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
佐藤庸平;上原雅人;中東尚之;寺内正己
通讯作者：
寺内正己

DOI：
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Uehara Masato其他文献

Effects of deposition conditions on the ferroelectric properties of (Al1-xScx)N thin films

沉积条件对(Al1-xScx)N薄膜铁电性能的影响

DOI：
10.1063/5.0015281
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
3.2
作者：
Yasuoka Shinnosuke;Shimizu Takao;Tateyama Akinori;Uehara Masato;Yamada Hiroshi;Akiyama Morito;Hiranaga Yoshiomi;Cho Yasuo;Funakubo Hiroshi
通讯作者：
Funakubo Hiroshi

First-Principles Study of Piezoelectric Properties and Bonding Analysis in (Mg, X, Al)N Solid Solutions (X = Nb, Ti, Zr, Hf)

(Mg, X, Al)N 固溶体 (X = Nb, Ti, Zr, Hf) 压电特性和键合分析的第一性原理研究

DOI：
10.1021/acsomega.9b01912
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
4.1
作者：
Hirata Kenji;Yamada Hiroshi;Uehara Masato;Anggraini Sri Ayu;Akiyama Morito
通讯作者：
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Piezoelectricity and ferroelectricity of Ternary and Quaternary Nitride Thin Films

三元和四元氮化物薄膜的压电性和铁电性

DOI：
发表时间：
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期刊：
影响因子：
0
作者：
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通讯作者：
Uehara Masato

Preparation of YbAlN piezoelectric thin film by sputtering and influence of Yb concentration on properties and crystal structure

溅射法制备YbAlN压电薄膜及Yb浓度对性能和晶体结构的影响

DOI：
10.1016/j.ceramint.2021.02.177
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
5.2
作者：
Uehara Masato;Amano Yuki;Anggraini Sri Ayu;Hirata Kenji;Yamada Hiroshi;Akiyama Morito
通讯作者：
Akiyama Morito

Effects of deposition conditions on the ferroelectric properties of (Al1-xScx)N thin films

沉积条件对(Al1-xScx)N薄膜铁电性能的影响

DOI：
10.1063/5.0015281
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
3.2
作者：
Yasuoka Shinnosuke;Shimizu Takao;Tateyama Akinori;Uehara Masato;Yamada Hiroshi;Akiyama Morito;Hiranaga Yoshiomi;Cho Yasuo;Funakubo Hiroshi
通讯作者：
Funakubo Hiroshi