トポロジーの概念にもとづく水素液化機能性材料の開発

基于拓扑概念的氢液化功能材料的开发

基本信息

  • 批准号:
    22K19093
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 4.16万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份:
    2022
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2022-06-30 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究「トポロジーの概念にもとづく水素液化機能性材料の開発」の目的は,磁気冷凍方式で水素液化を促進する物質を「トポロジー」の概念 にもとづいて開発することである.具体的には,まずは大きな磁気エントロピー変化を示すバルク物性を有する物質を開発する.空間反転・時間反転対称性のどちらも破り,磁性ワイル物質としての候補とされるRAlT (R: 希土類元素,T: Si, Ge)に着目し,NdAlGeの単結晶育成を浮遊帯域法にておこなった.レーザーを光源とした溶融帯の安定化により,50 mm の単結晶を育成できた.これらを用い,今年度は基礎となるバルク物性を詳細に評価することを目的とし,比熱,磁化率,磁化,熱膨張の測定をおこなった.比熱のシャープな転移と磁化率から磁気秩序は13.5 Kで生じ,他の転移については2 K までは見られなかった.磁化測定からc軸方向にイジング異方性を有することもわかった.熱膨張測定からは温度を下げていくと転移点以下でa軸とc軸ではそれぞれ,膨張および収縮と,異方的な振る舞いをする.これらの結果から,転移温度の一軸圧力下依存性,さらには静水圧力依存性をEhrenfest関係式から求め,姉妹物質(CeAlGe, CeAlSi)の静水圧力依存性ともよく一致していることを明らかにした.また,磁化の温度性を9 Tまで測定し,Maxwell関係式を用いて磁気エントロピー変化を求めた.イジング異方性に関連し軽希土類Nd を含む系において,5 T,9 T までの磁気エントロピー変化は,それぞれ-4.2, および-5.7 J/mol K と比較的大きな値を有する.これらのバルク物性を論文に発表した.今後,ホール効果などの物性も評価していく予定である.
这项研究的目的是“基于拓扑概念的氢液化功能材料的开发”是为了开发基于“拓扑概念”的磁制冷方法来促进氢液化的物质。 Specifically, first, we will develop a material with bulk properties that exhibit large magnetic entropy changes.使用浮动带方法进行了ndalge的单晶生长,重点是ralt(R:稀土元素,T:Si,GE),该方法被认为是磁性物质的候选者。 By stabilizing the melting zone using a laser as the light source, a 50 mm single crystal was able to grow.使用这些,今年,我们测量了特定的热量,磁化率,磁化和热膨胀,目的是详细评估潜在的体积物理特性。特定热的急剧过渡和磁敏感性在13.5 K处导致磁性阶,并且没有看到其他过渡。磁化测量值还表明,C轴方向上有各向异性。根据热膨胀测量值,如果温度降低,温度低于过渡点,并且A-和C轴的行为各向同性,分别膨胀和收缩。这些结果表明,eHrenfest关系的过渡温度和静液压压力依赖性的单轴压力依赖性,表明它与姊妹物质(Cealge和Cealsi)的静水压力依赖性也很吻合。此外,测量磁化的温度最高为9 t,并使用麦克斯韦关系确定磁熵的变化。在包含与Ising各向异性相关的光稀土系统中,磁熵的变化高达5 t和9 t分别具有-4.2和-5.7 j/mol K的相对较大的值。 These bulk properties were published in a paper. In the future, we plan to evaluate physical properties such as Hall effects.

项目成果

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专利数量(0)
Bulk Physical Properties of a Magnetic Weyl Semimetal Candidate NdAlGe Grown by a Laser Floating-Zone Method
  • DOI:
    10.3390/inorganics11010020
  • 发表时间:
    2023-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.9
  • 作者:
    N. Kikugawa;T. Terashima;T. Kato;Momoko Hayashi;H. Yamaguchi;S. Uji
  • 通讯作者:
    N. Kikugawa;T. Terashima;T. Kato;Momoko Hayashi;H. Yamaguchi;S. Uji
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