LD fabrication on semipolar GaN/Si by induced pressure InGaN growth and strain control

通过诱导压力 InGaN 生长和应变控制在半极性 GaN/Si 上进行 LD 制造

基本信息

  • 批准号:
    24686041
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 17.39万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    2012
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2012-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Anisotropic Optical Properties of Semipolar (1-101) InGaN/GaN Multiple Quantum Wells on a Patterned Si Substrate
图案化 Si 衬底上半极性 (1-101) InGaN/GaN 多量子阱的各向异性光学特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Kushimoto; T. Tanikawa; Y. Honda; M. Yamaguchi;H. Amano
  • 通讯作者:
    H. Amano
High pressure InGaN growth by MOVPE
MOVPE 高压 InGaN 生长
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Honda; S. Sakakura; T. Doi; T. Tanikawa; M. Yamaguchi;H. Amano
  • 通讯作者:
    H. Amano
Polarization properties 1n InGaN/GaN multiple quantum well on semipolar (1-101) GaN/Si
偏振特性 半极性 (1-101) GaN/Si 上的 1n InGaN/GaN 多量子阱
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Kushimoto; T. Tanikawa; Y. Honda; M. Yamaguchi;H. Amano
  • 通讯作者:
    H. Amano
InGaN growth on GaN/Sapphire by high pressure MOVPE
通过高压 MOVPE 在 GaN/蓝宝石上生长 InGaN
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Honda; S. Sakakura; T. Doi; T. Tanikawa; M. Yamaguchi;H. Amano
  • 通讯作者:
    H. Amano
加圧MOVPE法を用いたInGaN/GaN多重量子井戸の成長
采用加压 MOVPE 方法生长 InGaN/GaN 多量子阱
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    土井友博; 本田善央; 山口雅史; 天野 浩
  • 通讯作者:
     天野 浩
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