Fabrication of piezoelectric-field enhanced excitonic devices operating at room-temperature with the use of oxynitride superlattices

使用氮氧化物超晶格制造在室温下工作的压电场增强激子器件

基本信息

  • 批准号:
    23760285
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2011
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2011 至 2012
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Excitonic transistor has attracted much attention because of its potential advantages such as high operation and interconnection speed, small dimensions, and low per consumption. The major challenges for excitonic devices are to increase the operating temperature. Here we have developed a novel semiconductor based on oxynitride and a novel device structure that uses piezoelectric field with the aim to obtain room-temperature operating excitonic devices.
激子晶体管因其工作和互连速度快、尺寸小、单位功耗低等潜在优势而备受关注。激子器件的主要挑战是提高工作温度。在这里,我们开发了一种基于氮氧化物的新型半导体和一种利用压电场的新型器件结构,旨在获得室温工作的激子器件。

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Characterization of the energy flux toward the substrate during magnetron sputter deposition of ZnO thin films
ZnO 薄膜磁控溅射沉积过程中朝向基底的能量通量表征
  • DOI:
    10.1088/0963-0252/22/2/025019
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Bornholdt; N. Itagaki; K. Kuwahara; H. Wulff; M. Shiratani;H. Kersten (S. Bornholdt)
  • 通讯作者:
    H. Kersten (S. Bornholdt)
高効率太陽電池の実現に向けた新規酸窒化物半導体ZnInONのバンドギャップエンジニアリング
新型氮氧化物半导体ZnInON的带隙工程实现高效太阳能电池
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    板垣奈穂 (板垣奈穂)
  • 通讯作者:
    板垣奈穂 (板垣奈穂)
窒素添加結晶化バッファー層による ZnO:Al 薄膜の結晶性制御: 窒素供給量の影響
氮掺杂结晶缓冲层对 ZnO:Al 薄膜结晶度的控制:氮供应量的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    板垣奈穂
  • 通讯作者:
    板垣奈穂
窒素添加結晶化法による高品質酸化亜鉛薄膜の作成とその応用
加氮结晶法制备高品质氧化锌薄膜及其应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    板垣奈穂
  • 通讯作者:
    板垣奈穂
ZnO:Al薄膜の抵抗率の面内均一性に対する固相結晶化シード層の効果
固相晶种层对ZnO:Al薄膜面内电阻率均匀性的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    板垣奈穂;桑原和成;中原賢太;山下 大輔;鎌滝晋礼; 内田儀一郎;古閑一憲;白谷正治
  • 通讯作者:
    白谷正治
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ITAGAKI Naho其他文献

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  • 通讯作者:
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  • 批准号:
    21H04694
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 3万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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作者:{{ showInfoDetail.author }}

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