準結晶における高次元ギャップレストポロジカル相とトポロジカル相転移

准晶中的高维无间隙拓扑相和拓扑相变

基本信息

  • 批准号:
    18J23289
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.41万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-25 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

今年度も引き続き高次トポロジカル相に関する研究を行った。特に、回転対称性に保護された高次トポロジカル絶縁体と、非エルミートな高次トポロジカル表皮効果に関して大きな進展があった。(1)昨年度に導出した公式を一般化することで、n回回転対称性(n=3,4,6)に保護された高次トポロジカル絶縁体に対して、一般的なコーナー電荷公式を導出した。先行研究との主な違いは次の3つである:①結晶中のイオンの位置がユニットセルの中心とは限らない場合も含む、②バルクの分極がゼロでない場合にも適用可能、③より一般的な表面の出し方、例えば高次のミラー指数に対応する表面も考慮している。本研究により、分極が0でない物質であっても、コーナー電荷を有する可能性があることが示された。この結果は今後、コーナー電荷を有する候補物質の探索の際に大きく役立つと考えている。(2)一般化された空間反転対称性を持つ非エルミート系において、新たなトポロジカル数を定義し、それが非ゼロの場合に高次トポロジカル表皮効果を示すことを明らかにした。非エルミートなトポロジカル系の内、点ギャップトポロジーと呼ばれるものは、対応するカイラル対称なエルミート系のトポロジーと1対1の対応関係を持つ。本研究では、カイラル対称かつ空間反転対称なエルミート系のトポロジーを考えることで、非エルミート系の高次表皮効果を特徴づけることに成功した。この結果は一つの例ではあるが、非エルミート系の高次トポロジーを考える上で、重要な一つの例を与えるものだと考えている。
今年,我们继续对高阶拓扑阶段进行研究。特别是,在受旋转对称性和非高级高阶拓扑效应保护的高阶拓扑绝缘子中取得了重大进展。 (1)通过概括去年得出的公式,我们为受N折旋转对称性保护的高阶拓扑绝缘子的一般角度电荷公式(n = 3,4,6)衍生出来。先前研究的主要差异是以下三个:1),包括晶体中离子位置不一定是单位电池中心的情况,2)当散装极化不是零时,也可以应用它,3)也被认为是表面挤出的更一般的表面挤出方式,例如与高阶镜面相对的表面挤出。这项研究表明,即使具有非偏振的材料也可能具有角度电荷。我们认为,这一结果将在未来对具有角落费用的候选物质的搜索中有很大帮助。 (2)我们在具有广义的空间反演对称性的非热矿系统中定义了一个新的拓扑数,并透露,当它不零时,它会表现出高阶拓扑皮肤效应。在非热拓扑系统中,所谓的点间隙拓扑与相应的手性比对称遗传学拓扑具有一对一的对应关系。在这项研究中,我们通过考虑遗传学系统的拓扑结构(手性对称和空间倒在对称的对称性)中,成功地表征了非富甲系统的较高皮肤效应。尽管这个结果就是一个例子,但我们认为,在考虑非热矿系统的高阶拓扑时,它提供了一个重要的例子。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Bulk-edge and bulk-hinge correspondence in inversion-symmetric insulators
  • DOI:
    10.1103/physrevresearch.2.013300
  • 发表时间:
    2019-10
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.2
  • 作者:
    R. Takahashi;Yutaro Tanaka;S. Murakami
  • 通讯作者:
    R. Takahashi;Yutaro Tanaka;S. Murakami
高次トポロジカル結晶絶縁体における一般化されたコーナー電荷公式
高阶拓扑晶体绝缘体中的广义角电荷公式
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Tanaka Yutaro;Takahashi Ryo;Murakami Shuichi;高橋 亮
  • 通讯作者:
    高橋 亮
Second-order topological non-Hermitian skin effects
  • DOI:
    10.1103/physrevb.102.241202
  • 发表时间:
    2020-12-16
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.7
  • 作者:
    Okugawa, Ryo;Takahashi, Ryo;Yokomizo, Kazuki
  • 通讯作者:
    Yokomizo, Kazuki
Appearance of hinge states in second-order topological insulators via the cutting procedure
  • DOI:
    10.1103/physrevb.101.115120
  • 发表时间:
    2019-10
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.7
  • 作者:
    Yutaro Tanaka;R. Takahashi;S. Murakami
  • 通讯作者:
    Yutaro Tanaka;R. Takahashi;S. Murakami
"Hinge" surface states in Weyl semimetals
外尔半金属中的“铰链”表面态
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Tanaka Yutaro;Takahashi Ryo;Murakami Shuichi;高橋 亮;高橋亮
  • 通讯作者:
    高橋亮
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  • 发表时间:
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  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
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    0
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  • 发表时间:
    2019
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    0
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  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
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  • 作者:
    Iyengar Srikanth B.;Takahashi Ryo;Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;飯間 圭一郎; 松井 紘樹; 嶋田 芳; 高橋 亮;高橋 亮;Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;木村 海渡; 大竹 優也; 高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;大竹 優也; 木村 海渡; 高橋 亮;高橋 亮;木村 海渡; 大竹 優也; 高橋 亮;Hiroki Matsui; Ryo Takahashi;高橋 亮;Mohsen Gheibi; David A. Jorgensen; Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;Ryo Takahashi
  • 通讯作者:
    Ryo Takahashi
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  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Iyengar Srikanth B.;Takahashi Ryo;Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;飯間 圭一郎; 松井 紘樹; 嶋田 芳; 高橋 亮;高橋 亮;Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;木村 海渡; 大竹 優也; 高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;高橋 亮;大竹 優也; 木村 海渡; 高橋 亮;高橋 亮;木村 海渡; 大竹 優也; 高橋 亮;Hiroki Matsui; Ryo Takahashi;高橋 亮;Mohsen Gheibi; David A. Jorgensen; Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮;Ryo Takahashi;高橋 亮;高橋 亮
  • 通讯作者:
    高橋 亮

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