Development of method for simultaneously observing atomic and electronic structures by a high-resolution display-type photoelectron analyzer

高分辨率显示型光电子分析仪同时观察原子和电子结构的方法的开发

基本信息

  • 批准号:
    17H06201
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 16.64万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-06-30 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Principle and Reconstruction Algorithm for Atomic-Resolution Holography
原子分辨率全息术原理及重建算法
  • DOI:
    10.7566/jpsj.87.061002
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.7
  • 作者:
    Matsushita Tomohiro;Muro Takayuki;Matsui Fumihiko;Happo Naohisa;Hosokawa Shinya;Ohoyama Kenji;Sato-Tomita Ayana;Sasaki Yuji C.;Hayashi Kouichi
  • 通讯作者:
    Hayashi Kouichi
Soft x-ray photoemission stations at BL25SU of SPring-8: Microbeam ARPES and photoelectron holography using high-resolution retarding field analyzer
SPring-8 BL25SU 的软 X 射线光电发射站:使用高分辨率延迟场分析仪的微束 ARPES 和光电子全息术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takayuki Muro;Yasunori Senba;Haruhiko Ohashi;Tomohiro Matsushita,Toyohiko Kinoshita;and Shik Shin
  • 通讯作者:
    and Shik Shin
SPring-8 BL25SUにおける軟X線マイクロビームARPES
SPring-8 BL25SU 的软 X 射线微束 ARPES
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    室隆桂之
  • 通讯作者:
    室隆桂之
Progress in photoelectron holography at SPring-8
SPring-8 光电子全息术的进展
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/ab4d28
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Kinoshita Toyohiko;Muro Takayuki;Matsushita Tomohiro;Osawa Hitoshi;Ohkochi Takuo;Matsui Fumihiko;Matsuda Hiroyuki;Shimomura Masaru;Taguchi Munetaka;Daimon Hiroshi
  • 通讯作者:
    Daimon Hiroshi
Dopant structure measurements using photoelectron holography and its analysis tools
使用光电子全息术及其分析工具进行掺杂结构测量
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Tomohiro Matsushita;Takayuki Muro;Toyohiko Kinoshita;Kazuo Tsutsui;Takayoshi Yokoya;Fumihiko Matui;and Hiroshi Daimon
  • 通讯作者:
    and Hiroshi Daimon
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Muro Takayuki其他文献

イミダゾール‐ジカルボン酸塩のプロトン伝導性に対する分子ダイナミクス効果”、砂入允哉
“分子动力学对咪唑二羧酸酯质子电导率的影响”,Masuya Sunairi
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yamagami Kohei;Kanai Yuina;Naimen Sho;Fujiwara Hidenori;Kiss Takayuki;Tanaka Arata;Higashiya Atsushi;Imada Shin;Kadono Toshiharu;Tamasaku Kenji;Muro Takayuki;Yabashi Makina;Ishikawa Tetsuya;Eisaki Hiroshi;Miyasaka Shigeki;Tajima Setsuko;Sekiyama Akira;砂入允哉
  • 通讯作者:
    砂入允哉
Local structural determination of N at SiO2/SiC (0001) interfaces by photoelectron diffraction
通过光电子衍射测定 SiO2/SiC (0001) 界面 N 的局部结构
  • DOI:
    10.1063/1.4997080
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    Mori Daisuke;Oyama Yoshiki;Hirose Takayuki;Muro Takayuki;Matsui Fumihiko
  • 通讯作者:
    Matsui Fumihiko
アルミニウム板材に生じるブリスタの内部構造に及ぼす純度の影響
纯度对铝板材料泡罩内部结构的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Li YaJun;Sun ZeXu;Kataoka Noriyuki;Setoguchi Taro;Hashimoto Yusuke;Takeuchi Soichiro;Koga Shunjo;Muro Takayuki;Demura Satoshi;Noguchi Kanako;Sakata Hideaki;Matsushita Tomohiro;Kawasaki Ikuto;Fujimori Shin-ichi;Wakita Takanori;Muraoka Yuji;Yokoya Takayoshi;堀川敬太郎
  • 通讯作者:
    堀川敬太郎
Mapping nanometer and micrometer-scale structures at graphite surface by photoelectron diffraction
通过光电子衍射绘制石墨表面的纳米和微米级结构
  • DOI:
    10.1002/sia.6551
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.7
  • 作者:
    Fujita Yoshiki;Ota Hiroshi;Matsushita Tomohiro;Muro Takayuki;Senba Yasunori;Matsui Fumihiko
  • 通讯作者:
    Matsui Fumihiko
Quantum Response of Majorana Fermions in Topological Crystalline Superconductors
拓扑晶体超导体中马约拉纳费米子的量子响应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Fujita Yoshiki;Ota Hiroshi;Matsushita Tomohiro;Muro Takayuki;Senba Yasunori;Matsui Fumihiko;佐藤昌利;M.Sato
  • 通讯作者:
    M.Sato

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  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 16.64万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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