Development of flexible transparent conductive films by direct photochemical lithography
直接光化学光刻法开发柔性透明导电薄膜
基本信息
- 批准号：17H03432
- 负责人：
- 金额：$ 11.56万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2017
- 资助国家：日本
- 起止时间：2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
金属イオンドープ高分子上におけるMOF膜形成プロセスの解析
金属离子掺杂聚合物MOF成膜过程分析
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：畠茉奈美;大橋卓史;髙嶋洋平;赤松謙祐;鶴岡孝章
- 通讯作者：鶴岡孝章
Fabrication of metalli films on resin substrate by photoinduced reduction process
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- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：R. Fujiwara;H;Hiraki;Y. Sugitani;Y. Takashima;K. Akamatsu
- 通讯作者：K. Akamatsu
光ダイレクトリソグラフィーによる樹脂上への透明導電膜の作製
光学直接光刻法在树脂上制备透明导电薄膜
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉川結麻;髙嶋洋平;鶴岡孝章;赤松謙祐
- 通讯作者：赤松謙祐
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- 影响因子：1.6
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Akamatsu Kensuke
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2314036 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 11.56万 - 项目类别：
Standard Grant
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