Atomic layer etching of transition metal chalcogenide with gas cluster ion beam

气体团簇离子束对过渡金属硫族化物的原子层刻蚀

基本信息

  • 批准号:
    17K05061
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Atomic layer etching with gas cluster ion beam irradiation in reactive gas vapor
反应气体蒸气中气体团簇离子束照射的原子层蚀刻
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Noriaki Toyoda;Akihiro Ogawa;Isao Yamada
  • 通讯作者:
    Isao Yamada
Low temperature wafer bonding with gas cluster ion beams
使用气体团簇离子束进行低温晶圆键合
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Noriaki Toyoda;Shota Ikeda
  • 通讯作者:
    Shota Ikeda
Optimization of GCIB irradiation conditions for surface activated bonding Proceedings of 5th Int. Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration
表面活化粘合 GCIB 辐照条件的优化第五届国际会议论文集
Irradiation conditions of gas cluster ion beam for surface-activated bonding
表面活化键合气体团簇离子束的照射条件
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.02ba02
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Noriaki Toyoda;Tomoya Sasaki;Shota Ikeda;Isao Yamada
  • 通讯作者:
    Isao Yamada
hfac吸着表面へのGCIB照射によるNiの原子層エッチング
hfac吸附表面GCIB辐照对Ni的原子层刻蚀
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鶴岡 徹;蘇 進;辻田卓司;西谷雄;濱村朋史;稲富友;名倉健祐;寺部 一弥;植松 功多, 豊田 紀章
  • 通讯作者:
    植松 功多, 豊田 紀章
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  • 通讯作者:
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  • 通讯作者:
    斎藤 慎彦

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