Effects of defects and surface structure on oxide film on non-polar 4H-SiC plane
非极性4H-SiC面氧化膜缺陷及表面结构的影响
基本信息
- 批准号:17K05049
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2017
- 资助国家:日本
- 起止时间:2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Observation and classification of defects in gallium oxide
氧化镓缺陷的观察和分类
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yao;Yongzhao
- 通讯作者:Yongzhao
Observation of dislocations in β-Ga2O3 single-crystal substrates by synchrotron X-ray topography, chemical etching, and transmission electron microscopy
通过同步加速器X射线形貌、化学蚀刻和透射电子显微镜观察β-Ga2O3单晶基板中的位错
- DOI:10.35848/1347-4065/ab7dda
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:Yongzhao Yao;Yoshihiro Sugawara and Yukari Ishikawa
- 通讯作者:Yoshihiro Sugawara and Yukari Ishikawa
Expansion of Basal Plane Dislocation in 4H-SiC Epitaxial Layer on A-Plane by Electron Beam Irradiation
电子束辐照4H-SiC外延层A面基面位错扩展
- DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.924.151
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Masaki Sudo;Yukari Ishikawa;Yongzhao Yao;Yoshihiro Sugawara;and Masashi Kato
- 通讯作者:and Masashi Kato
HVPE-GaN基板上に形成したビッカース圧痕周囲の転位構造
HVPE-GaN 衬底上形成的维氏压痕周围的位错结构
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:石川 由加里;菅原 義弘;横江 大作;姚 永昭
- 通讯作者:姚 永昭
4H-SiCのA面における基底面転位の電子線照射による拡張挙動
电子束辐照下 4H-SiC A 面上基面位错的扩展行为
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:石川由加里,須藤正喜,菅原義弘,姚永昭,加藤正史;三好実人;江川孝志;石川由加里,須藤正喜,姚永昭,菅原義弘,加藤正史
- 通讯作者:石川由加里,須藤正喜,姚永昭,菅原義弘,加藤正史
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Yukari Ishikawa其他文献
Linear relationship between dislocation pattern size induced by Vickers indentation and imprint width on (0001) GaN
维氏压痕引起的位错图案尺寸与 (0001) GaN 上的压印宽度之间的线性关系
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Yukari Ishikawa;Yoshihiro Sugawara;Yongzhao Yao;Syusui Ogawa;Daisaku yokoe; Hidetoshi Takeda;Hideo Aida;Kazuyuki Tadatomo - 通讯作者:
Kazuyuki Tadatomo
深絞り加工におけるブランク形状と分割可変ブランクホルダー力の同時最適化
拉深加工中毛坯形状与分变压边力的同步优化
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Yukari Ishikawa;Yong-Zhao Yao;Yoshihiro Sugawara;Koji Sato;Yoshihiro Okamoto,Noritaka Hayashi;Benjamin Dierre;Kentaro Watanabe;and Takashi Sekiguchi;河本基一郎,宮坂卓嗣,山道顕,野田拓也,北山哲士,小山浩季,山崎光悦 - 通讯作者:
河本基一郎,宮坂卓嗣,山道顕,野田拓也,北山哲士,小山浩季,山崎光悦
Investigation of the Origin of the Leakage of P-N Diodes on a Free-Standing GaN Substrate Using the 3DAP and LACBED Methods
使用 3DAP 和 LACBED 方法研究独立式 GaN 衬底上 P-N 二极管漏电的根源
- DOI:
- 发表时间:
2018 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Shigeyoshi Usami;Yoshihiro Sugawara;Yong-Zhao Yao;Yukari Ishikawa;Norihito Mayama;Kazuya Toda;Yuto Ando;Atsushi Tanaka;Kentaro Nagamatsu;Manato Deki;Maki Kushimoto;Shugo Nitta;Yoshio Honda;Hiroshi Amano - 通讯作者:
Hiroshi Amano
Use of Cement Kilns for Managing Hazardous Waste in Developing Countries
发展中国家使用水泥窑管理危险废物
- DOI:
10.1007/978-1-4471-2306-4_6 - 发表时间:
2012 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Yukari Ishikawa;S. Herat - 通讯作者:
S. Herat
Impact of presarcopenic dysphagia on 1-year mortality after video�uoroscopic swallowing study in patients with cancer
癌症患者电视荧光吞咽研究后肌少症前吞咽困难对 1 年死亡率的影响
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Takashi Mori;H. Wakabayashi;Ichiro Fujishima;Risa Narabu;Akio Shimizu;F. Oshima;M. Itoda;Sumito Ogawa;T. Ohno;M. Yamada;K. Kunieda;T. Shigematsu;N. Ogawa;S. Nishioka;K. Fukuma;Yukari Ishikawa;Yuto Saito - 通讯作者:
Yuto Saito
Yukari Ishikawa的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
非極性面上窒化アルミニウムガリウム系半導体結晶の高品質化と物性制御
非极性面氮化铝镓半导体晶体的高质量及物性控制
- 批准号:
14J02639 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Development of high quality semipolar-GaN substrates by HVPE with improved source-utilization efficiency
通过 HVPE 开发高质量半极性 GaN 衬底,提高资源利用率
- 批准号:
26790044 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
AlGaN系窒化物半導体の非極性面結晶成長に関する研究
AlGaN基氮化物半导体非极面晶体生长研究
- 批准号:
11J10845 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Development of low defect density semipolar GaN substrates by hydride vapor phase epitaxy
氢化物气相外延开发低缺陷密度半极性GaN衬底
- 批准号:
23860033 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
非極性窒化物半導体の選択成長と発光デバイスへの応用に関する研究
非极性氮化物半导体的选择性生长及其在发光器件中的应用研究
- 批准号:
10J08374 - 财政年份:2010
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows