Silicene surrounded by oxide- Development using self-limitation of oxidation and oxidation-induced strain
被氧化物包围的硅烯——利用氧化自限制和氧化诱导应变进行开发
基本信息
- 批准号:16H05969
- 负责人:
- 金额:$ 12.06万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
O2 pressure dependence of initial oxidation kinetics on Ni(111) surfaces
Ni(111) 表面初始氧化动力学的 O2 压力依赖性
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Ogawa;R. Taga;T. Ozaki;A. Yoshigoe;and Y. Takakuwa
- 通讯作者:and Y. Takakuwa
Detection of molecular oxygen adsorbate during room-temperature oxidation of Si(100)2×1 surface: In situ synchrotron radiation photoemission study
Si(100)2×1表面室温氧化过程中分子氧吸附物的检测:原位同步辐射光电子研究
- DOI:10.7567/jjap.55.100307
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:A. Yoshigoe;Y. Yamada;R. Taga;S. Ogawa;Y. Takakuwa
- 通讯作者:Y. Takakuwa
O2 Pressure Dependence of SiO2/Si Interfacial Oxidation Rate Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy
实时光电子能谱研究SiO2/Si界面氧化速率对O2压力的依赖性
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Ogawa;A. Yoshigoe;S. Ishidzuka;Y. Takakuwa
- 通讯作者:Y. Takakuwa
O2 Pressure Dependence of Oxidation Rate on p- and n-Si(001) Surfaces
p- 和 n-Si(001) 表面氧化速率与 O2 压力的关系
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Sekihata;S. Ogawa and Y. Takakuwa
- 通讯作者:S. Ogawa and Y. Takakuwa
Band alignment determination of bulk h-BN and graphene/h-BN laminates using photoelectron emission microscopy
- DOI:10.1063/1.5093430
- 发表时间:2019-04
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:S. Ogawa;T. Yamada;Ryo Kadowaki;T. Taniguchi;T. Abukawa;Y. Takakuwa
- 通讯作者:S. Ogawa;T. Yamada;Ryo Kadowaki;T. Taniguchi;T. Abukawa;Y. Takakuwa
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Ogawa Shuichi其他文献
Oxygen Gas Barrier Property of Monolayer CVD Graphene
单层CVD石墨烯的氧气阻隔性能
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- 影响因子:0
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Ogawa Shuichi
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- 影响因子:3
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- 影响因子:0
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Takakuwa Yuji
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- 资助金额:
$ 12.06万 - 项目类别:
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23H00258 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 12.06万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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- 批准号:
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- 资助金额:
$ 12.06万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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- 批准号:
20J10412 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 12.06万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Silicene surrounded by oxide -quality improvement and its application to transistors
氧化物包围硅烯的质量改进及其在晶体管中的应用
- 批准号:
17KK0125 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 12.06万 - 项目类别:
Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
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使用键合工程概念进行 IV 族合金单层材料设计
- 批准号:
17K05056 - 财政年份:2017
- 资助金额:
$ 12.06万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)