An realistic improvement of reactor design to enhance ammonia decomposition rate for high quality high In content InGaN MOVPE growth
对反应器设计进行实际改进,以提高氨分解速率,实现高质量高 In 含量 InGaN MOVPE 生长
基本信息
- 批准号:16K06260
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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In-line NH3 Reactant Analysis on Nitride Semiconductor Metalorganic Vapor Phase Epitaxy via High-Resolution Mass Spectrometry
通过高分辨率质谱对氮化物半导体金属有机气相外延进行在线 NH3 反应物分析
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Nitta;K. Nagamatsu;R. Miyagoshi;Z. Ye;H. Nagao; S. Miki;H. Y. Honda and H. Amano
- 通讯作者:H. Y. Honda and H. Amano
The effect of the environment temperature around the wafer on InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy
晶圆周围环境温度对有机金属气相外延生长InGaN的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Zhibin Liu;Shugo Nitta;Shigeyoshi Usami;Kentaro Nagamatsu;Yoann Robin;Maki Kushimoto;Manato Deki;Yoshio Honda;and Hiroshi Amano
- 通讯作者:and Hiroshi Amano
Effect of the misorientation angle of GaN substrate on high-indium-content InGaN grown by metalorganic vapor phase epitaxy
GaN衬底的取向差角对金属有机气相外延生长高铟含量InGaN的影响
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Zhibin Liu;Shugo Nitta;Yoann Robin;Maki Kushimoto;Manato Deki;Yoshio Honda;Markus Pristovsek;and Hiroshi Amano
- 通讯作者:and Hiroshi Amano
Morphological study of InGaN on GaN substrate by supersaturation
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2018.12.028
- 发表时间:2019-02-15
- 期刊:
- 影响因子:1.8
- 作者:Liu, Zhibin;Nitta, Shugo;Amano, Hiroshi
- 通讯作者:Amano, Hiroshi
In situ and ex situ optical characterization of nitride semiconductor crystal for advanced optical and power electronic devices
用于先进光学和电力电子器件的氮化物半导体晶体的原位和异位光学表征
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Zhibin Liu;Shugo Nitta;Yoann Robin;Maki Kushimoto;Manato Deki;Yoshio Honda;Markus Pristovsek;and Hiroshi Amano;Zhibin Liu;Shugo Nitta;Zhibin Liu;Zhibin Liu;Shugo Nitta
- 通讯作者:Shugo Nitta
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Nitta Shugo其他文献
指数定理を用いた超伝導近接効果の研究
利用指数定理研究超导邻近效应
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Kumabe Takeru;Watanabe Hirotaka;Ando Yuto;Tanaka Atsushi;Nitta Shugo;Honda Yoshio;Amano Hiroshi;池谷 聡 - 通讯作者:
池谷 聡
“Regrowth-free” fabrication of high-current-gain AlGaN/GaN heterojunction bipolar transistor with N-p-n configuration
“无再生”制造具有 N-p-n 配置的高电流增益 AlGaN/GaN 异质结双极晶体管
- DOI:
10.35848/1882-0786/ac6197 - 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:
Kumabe Takeru;Watanabe Hirotaka;Ando Yuto;Tanaka Atsushi;Nitta Shugo;Honda Yoshio;Amano Hiroshi - 通讯作者:
Amano Hiroshi
Thermodynamic analysis of the gas phase reaction of Mg-doped GaN growth by HVPE using MgO
使用 MgO 通过 HVPE 生长掺镁 GaN 的气相反应的热力学分析
- DOI:
10.35848/1347-4065/aba0d5 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:
Kimura Tomoya;Ohnishi Kazuki;Amano Yuki;Fujimoto Naoki;Araidai Masaaki;Nitta Shugo;Honda Yoshio;Amano Hiroshi;Kangawa Yoshihiro;Shiraishi Kenji - 通讯作者:
Shiraishi Kenji
Interface amorphization in hexagonal boron nitride films on sapphire substrate grown by metalorganic vapor phase epitaxy
蓝宝石衬底上有机金属气相外延生长六方氮化硼薄膜的界面非晶化
- DOI:
10.7567/apex.11.051002 - 发表时间:
2018 - 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:
Yang Xu;Nitta Shugo;Pristovsek Markus;Liu Yuhuai;Nagamatsu Kentaro;Kushimoto Maki;Honda Yoshio;Amano Hiroshi - 通讯作者:
Amano Hiroshi
Photoluminescence properties of implanted Praseodymium into Gallium Nitride at elevated temperatures
高温下将镨注入氮化镓的光致发光特性
- DOI:
10.1016/j.nimb.2020.06.007 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Sato Shin-ichiro;Deki Manato;Nishimura Tomoaki;Okada Hiroshi;Watanabe Hirotaka;Nitta Shugo;Honda Yoshio;Amano Hiroshi;Ohshima Takeshi - 通讯作者:
Ohshima Takeshi
Nitta Shugo的其他文献
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