Crystallization of Silicon Thin Films by Microwave Rapid Heating
微波快速加热硅薄膜结晶
基本信息
- 批准号:16K06255
- 负责人:
- 金额:$ 3.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Crystallization of Silicon Thin Films By Microwave-Induced Rapid Heating
微波诱导快速加热硅薄膜的结晶
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Kimura;K. Ota;M. Hasumi;A. Suzuki;M. Ushijima;and T. Sameshima
- 通讯作者:and T. Sameshima
Crystallization and activation of silicon by microwave rapid annealing
- DOI:10.1007/s00339-016-0220-7
- 发表时间:2016-06
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Kimura;Kosuke Ota;M. Hasumi;Ayuta Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima
- 通讯作者:S. Kimura;Kosuke Ota;M. Hasumi;Ayuta Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima
Heat treatment in liquid water at 80oC used to improve the interface characteristic of metal-oxide-semiconductor capacitor
80℃液态水中热处理改善金属氧化物半导体电容器界面特性
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yoshito Hirokawa;Masahiko Hasumi;Toshiyuki Sameshima;Tomohisa Mizuno
- 通讯作者:Tomohisa Mizuno
Heating equipment with carbon heating used to activate silicon and fabricate its solar cells
用于激活硅并制造太阳能电池的碳加热加热设备
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Toshitaka Kikuchi;Takashi Sugawara;Takuma Uehara;Tomoyoshi Miyazaki;Go Kobayashi;Masahiko Hasumi;Toshiyuki Sameshima
- 通讯作者:Toshiyuki Sameshima
Microwave Rapid Heating Used for Diffusing Impurities in Silicon
微波快速加热用于扩散硅中的杂质
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Ota;S. Kimura;M. Hasumi;A. Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima
- 通讯作者:T. Sameshima
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