Elucidation of fine polishing mechanism by measuring interfacial potential during chemical mechanical polishing
通过测量化学机械抛光过程中的界面电位来阐明精细抛光机制
基本信息
- 批准号:16K06009
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Evaluation of hydration free energy of glass by electric potential change during chemical mechanical polishing
通过化学机械抛光过程中电势变化评价玻璃的水合自由能
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Suda;R. Fukuzaki;K. Kawahara
- 通讯作者:K. Kawahara
Chemical mechanical polishing of glass
玻璃化学机械抛光
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Sugimoto;S. Suda;K. Kawahara;S. Suda
- 通讯作者:S. Suda
ガラスのCMPにおける水和自由エネルギーの評価
玻璃CMP中水合自由能的评价
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Sugimoto;S. Suda;K. Kawahara;福嵜遼,須田聖一
- 通讯作者:福嵜遼,須田聖一
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